在EVG的NILPhotonics ® 技術(shù)處理中心，共同合作開發(fā)衍射光學(xué)的新材料，以應(yīng)用于波導(dǎo)管、臉部識(shí)別傳感器和其他光子組件

2020年2月17日，奧地利ST. FLORIAN和芬蘭埃斯波—EV Group(EVG)，為MEMS、納米科技和半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合和光刻設(shè)備的領(lǐng)導(dǎo)品牌供貨商，今天宣布，它和專注于高折射率和低折射率涂層材料的制造商 INKRON開始合作伙伴關(guān)系。兩間公司將為開發(fā)和生產(chǎn)高質(zhì)量衍射光學(xué)組件(DOE)結(jié)構(gòu)提供優(yōu)化的制程和相符的高折射材料。這些DOE結(jié)構(gòu)包括用于擴(kuò)增實(shí)境/混合實(shí)境/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR / MR / VR)的波導(dǎo)器件，以及在車用、消費(fèi)電子和商業(yè)應(yīng)用中的先進(jìn)光學(xué)感測(cè)組件，如光束分離器和光束擴(kuò)散器。

印刻有配備Inkron先進(jìn)樹脂的EVG光刻/納米壓印系統(tǒng)的光學(xué)組件結(jié)構(gòu)

這伙伴關(guān)系正在EVG總部，位于奧地利 St. Florian的NILPhotonics®技術(shù)處理中心內(nèi)開展 。EVG的NILPhotonics技術(shù)處理中心為NIL供應(yīng)鏈中的客戶和合作伙伴提供一個(gè)開放式創(chuàng)新平臺(tái)，其目的為縮短新創(chuàng)光子組件及其應(yīng)用的開發(fā)周期和產(chǎn)品上市時(shí)間。作為該協(xié)議的一部分，Inkron為自己的研發(fā)機(jī)構(gòu)購買了EVG 7200 NIL系統(tǒng)，來加速新光學(xué)材料的開發(fā)和驗(yàn)證。EVG 7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL ® 技術(shù)和材料經(jīng)驗(yàn)，能夠在大面積上大規(guī)模生產(chǎn)小至30 nm的微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)，其特色還包含它只需用到極小的力量同時(shí)保有結(jié)構(gòu)不變形，快速的高功率曝光和平順的脫模。.

“ 商用和消費(fèi)者市場(chǎng)對(duì)晶圓級(jí)光學(xué)組件和傳感器的需求正以驚人的速度增長(zhǎng)，而這造成所需的原材料及工藝必須被優(yōu)化，以達(dá)到市場(chǎng)所需的效能及產(chǎn)能，” EVG技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)，Markus Wimplinger這樣說，“ Inkron在光學(xué)材料方面擁有廣泛的專業(yè)知識(shí)，并且是高折射和低折射涂層材料的領(lǐng)先制造商之一，因此Inkron成為與我們?cè)贜ILPhotonics技術(shù)處理中心合作的理想伙伴。像這樣的合作使EVG能夠進(jìn)一步探索和擴(kuò)展我們NIL技術(shù)的應(yīng)用和特性，而得以為下一代光學(xué)組件和其最終產(chǎn)品提供可用于量產(chǎn)的解決方案。”

光學(xué)組件和組件的材料特性，對(duì)已封裝的光學(xué)組件整體效能及大小有著極大影響。舉例來說，較高的折射率(RI≧1.9 以上)可優(yōu)化光萃取效能，進(jìn)而顯著提升光導(dǎo)管可見視野，提供給AR / VR頭罩更逼真的體驗(yàn)。高折材料還可以提供更高的光密度，使衍射光學(xué)更有效地用于分束器(例如臉部識(shí)別的傳感器)，如此未來的光學(xué)組件就可變得更小。高折射材料的附加優(yōu)化可以改善膜的透明度，并減少霧度和散射，從而提供更好的對(duì)比度;而改善的樹脂穩(wěn)定性可以滿足更嚴(yán)苛的熱要求，如車用方面的需求。

為NIL制程而調(diào)配的高折材料，有助于確保NIL制程在量產(chǎn)化的實(shí)現(xiàn)。NIL 是一種被驗(yàn)證過的光學(xué)組件制造方法，因?yàn)樗軌蛟诒Ｓ衅浣?jīng)濟(jì)效益下，于量產(chǎn)中做出納米等級(jí)的結(jié)構(gòu)，而且并不限制于特別的尺寸、形狀和復(fù)雜性。

“我們很高興與EVG合作，這將加速我們推出更新、更優(yōu)化和更創(chuàng)新的光學(xué)材料技術(shù)，這些技術(shù)對(duì)實(shí)現(xiàn)我們客戶的關(guān)鍵性能指針有著很大的幫助。” Inkron執(zhí)行長(zhǎng)Juha Rantala表示，“我們的納米壓印高折材料和搭配的填充涂層，再加上EVG領(lǐng)先的NIL系統(tǒng)，為光學(xué)制造商提供了關(guān)鍵的晶圓級(jí)解決方案，這可以讓他們最新產(chǎn)品能更大量的生產(chǎn)。”

晶圓級(jí)光學(xué)(WLO)的應(yīng)用和解決方案

EVG的NIL系統(tǒng)構(gòu)成了該公司W(wǎng)LO制造解決方案的關(guān)鍵部件，這使得大量新的光感器可用于移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品中。舉例包括3D感應(yīng)、飛行時(shí)間、結(jié)構(gòu)光、生物識(shí)別、臉部識(shí)別、虹膜掃描、光學(xué)指紋、光譜感應(yīng)、環(huán)境感應(yīng)和紅外線熱成像。其他應(yīng)用包括車用照明、光地毯、抬頭顯示器、車內(nèi)感應(yīng)和LiDAR(激光雷達(dá))，以及用于內(nèi)窺鏡相機(jī)，眼科應(yīng)用和外科手術(shù)機(jī)器人的醫(yī)學(xué)成像。EVG的WLO解決方案由該公司NILPhotonics技術(shù)處理中心提供。

關(guān)于Inkron

長(zhǎng)瀨集團(tuán)成員Inkron是高折射和低折射涂層材料的開發(fā)商和制造商。這些業(yè)界領(lǐng)先的光學(xué)涂料包含在VIS / NIR范圍內(nèi)，有著破紀(jì)錄的折射率，其折射率介于1.1到2.0之間。高折射材料針對(duì)納米壓印光刻(NIL)制程進(jìn)行了優(yōu)化。應(yīng)用包括DOE(衍射光學(xué)組件)，如AR / MR / VR設(shè)備的波導(dǎo)管、光學(xué)擴(kuò)散器、LIDAR和其他光子應(yīng)用。高折射材料可同時(shí)搭配Inkron的低折射材料，其低折射范圍為1.1-1.4。低折射材料的典型應(yīng)用包括抗反射涂層(可見光和NIR范圍)、波導(dǎo)管包覆層和接著層。自制合成的樹脂和配方具有光學(xué)透明性，熱穩(wěn)定性，并且可以滿足商業(yè)需求的嚴(yán)苛應(yīng)用。Inkron的其他產(chǎn)品包括導(dǎo)熱粘合劑，封裝膠和一系列可印刷膠材。

關(guān)于EV Group(EVG)

EV集團(tuán)(EVG)是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻(NIL)與計(jì)量設(shè)備，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)和檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務(wù)與支持。