Laker定制設(shè)計解決方案已獲得TSMC 16-nm FinFET制程認證并提供iPDK套件

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?Laker定制設(shè)計解決方案已經(jīng)通過TSMC 16-nm FinFET制程的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)第0.5版認證

?Laker支持TSMC 16-nm v0.5 iPDK的功能包括：復(fù)雜的FinFET橋接規(guī)則、雙重圖形曝光(double-pattern)、中間線端層（MEOL）和其他先進技術(shù)節(jié)點設(shè)計的要求

?TSMC和Synopsys將繼續(xù)合作支持iPDK，以孵化定制設(shè)計創(chuàng)新

為加速芯片和電子系統(tǒng)創(chuàng)新而提供軟件、知識產(chǎn)權(quán)（IP）及服務(wù)的全球性領(lǐng)先供應(yīng)商新思科技公司（Synopsys）日前宣布：Synopsys Laker?定制設(shè)計解決方案已經(jīng)通過TSMC 16-nm FinFET制程的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)第0.5版的認證，同時從即刻起可以提供一套TSMC 16-nm可互通制程設(shè)計套件（iPDK）。憑借其對iPDK標準強大的支持，Synopsys的Laker定制解決方案為用戶提供了從180-nm到16-nm的多種TSMC工藝技術(shù)的全面對接。除了對TSMC 16-nm V0.5 iPDK的支持，Laker工具也已實現(xiàn)了增強，以確保能夠充分利用FinFET技術(shù)的優(yōu)勢。

Laker針對16-nm版圖的功能增強包括一整套多樣化的、面向FinFET器件的新功能，包括fin網(wǎng)格模式快速圖像描述、fin顯示以及交互式的FinFET規(guī)則檢測。Laker的內(nèi)置雙重圖形曝光（double-pattern）檢查已得到增強，以支持預(yù)著色(pre-coloring)和顏色密度(color density)檢查。Laker支持中間端線層（MEOL）設(shè)計，包括無通孔的連接、單向?qū)右?guī)則以及用以支持16-nm防護環(huán)的功能增強。Laker也已被增強以支持TSMC 16-nm V0.5 iPDK中所使用的連續(xù)有源區(qū)(CNOD)規(guī)則和有源區(qū)邊緣多晶硅覆蓋的（PODE）橋接規(guī)則。

“Synopsys是TSMC開放創(chuàng)新平臺的長期合作伙伴，”TSMC設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)市場部高級主管Suk Lee表示到?！癝ynopsys的 Laker定制設(shè)計解決方案獲得的認證展現(xiàn)了我們之間的服務(wù)協(xié)同，我們將一起支持雙方的共同客戶采用16-nm的FinFET技術(shù)。”

“Synopsys一直與TSMC密切合作去為16-nm節(jié)點的設(shè)計技術(shù)做好準備，”Synopsys負責產(chǎn)品市場營銷、設(shè)計和制造產(chǎn)品的副總裁Bijan Kiani表示。“借助早期的SPICE模型開發(fā)、與Synopsys IP團隊的密切合作、以及現(xiàn)在Laker定制解決方案的支持能力，我們已經(jīng)為支持TSMC 16-nm技術(shù)和客戶做好了全面的準備?！?br>