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[導(dǎo)讀](續(xù)) 2.2 Al基復(fù)合材料由于Al的CTE比Cu還大,為使其CTE與Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體材料相近,常常不得不采用高體積分?jǐn)?shù)的增強(qiáng)體與其復(fù)合,添加量甚至高達(dá)70%,但如果用作與玻璃相匹配的封裝材料,添加量則可以少一些

(續(xù))

2.2 Al基復(fù)合材料

由于Al的CTE比Cu還大,為使其CTE與Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體材料相近,常常不得不采用高體積分?jǐn)?shù)的增強(qiáng)體與其復(fù)合,添加量甚至高達(dá)70%,但如果用作與玻璃相匹配的封裝材料,添加量則可以少一些。鋁基復(fù)合材料不僅具有比強(qiáng)度、比剛度高的特點(diǎn),而且導(dǎo)熱性能好、CTE可調(diào)、密度較低。常用的增強(qiáng)體包括C、B、Si、金剛石、碳化物(如SiC、TiC)、氮化物(如AlN、Si3N4)和氧化物(如Al2O3、SiO2),基體合金則可為純AL,或6061、6063、2024等鋁合金等。如用硼纖維增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料,當(dāng)硼含量為20%時,其X-Y平面的CTE為12.7×1O-6K-1,熱導(dǎo)率為180W(m-1K-1),密度為2.6g cm-3。

Al/SiC是一種在金屬封裝中口前國外得到廣泛使用的鋁基復(fù)合材料,它山30%-70%的SiC顆粒和鋁或鋁合金組成。它的CTE可通過改變組分的百分含量進(jìn)行調(diào)節(jié),低SiC含量的Al/SiC復(fù)合材料可以沖裁。隨著SiC含量的增加,其CTE將從鋁的23.2×10-6K-1逐漸下降。小于鋁的熱導(dǎo)率為237W(m-1K-1),SiC的熱導(dǎo)率為110W(m-1K-1),因此SiC含量的改變對材料熱導(dǎo)率影響不大,含有70%SiC的Al/SiC材料其熱導(dǎo)率仍高達(dá)170W(m-1K-1),而CTE大約為7×10-6K-1左右,可以獲得良好的熱匹配,使得與芯片或基板的結(jié)合處應(yīng)力最小,同時提供廠比可伐合金高山10倍導(dǎo)熱能力,因而不需要使用散熱片。山于鋁和SiC的密度都很小,因而Al/SiC材料的密度也很小,70%SiC的Al/SiC材料的密度僅為2.79g cm-3。這些性能使它成為滿足氣密封裝需要的理想材料,它特別適合于空間應(yīng)用。例如一個目前正在運(yùn)行的軍事衛(wèi)星用于微波封裝的可伐介金重量超過了23kg,若用A1/SiC代替,重量至少節(jié)約13kg以上,即大約60%。Al/SiC的制備工藝比較成熟,同時町以在其上鍍Au、Ni等,很容易實現(xiàn)封裝材料的焊接[6-11]。法國Egide Xeram公司研制生產(chǎn)了一系列Al/SiC氣密性封裝外殼,最大外形尺寸達(dá)220mm×220mm,已在軍用機(jī)載電子設(shè)備十微波MCM上獲得應(yīng)用。圖2為Al/SiC材料在LEO商業(yè)通信衛(wèi)星微波/射頻封裝上的應(yīng)用實例。Olin Aegis公司使用Al/SiC復(fù)合材料制造的氣密封裝產(chǎn)品(圖3),能夠滿足軍事和航天規(guī)范的全部要求。該公司專利的電鍍技術(shù)可以使外殼經(jīng)受400℃工作溫度而不會發(fā)生鍍層起泡和剝落現(xiàn)象。

國外已有多家公司生產(chǎn)Al/SiC復(fù)合材料。如Advanced Forming Technology(AFT)公司、Polese公司、AMETEK Specialty Metal Products公司等。美國Thermal Transfer Composites(TTC)公司是利用Primex(MCX-693-MCX-947)和Primex Cast (MCX-1195-MCX-1605)兩種技術(shù)生產(chǎn)Al/SiC復(fù)合材料。Ceramics Process Systems(CPS)公司使用Al/SiC復(fù)合材料制造微處理器蓋板和散熱片有三個牌號的,分別為CPS AlSiC-9,A1SiC-10和AISiC-12,CTE(20-150℃)分別為9×10-6K-1、10×10-6K-1、12×10-6K-1。此外,該公司也用其制造功率基板、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)底座、微波外殼和載體板。這些公司生產(chǎn)的Al/SiC復(fù)合材料的數(shù)據(jù)如表7所示。

Al/SiC復(fù)合材料也存在一些弱點(diǎn),主要是山于含有大量硬度極高的SiC,難于加工,盡管采用丁凈成形技術(shù),但也只在大批量生產(chǎn)上才合算。此外,需要在表層都是Al時才能可靠地電鍍和釬焊。因此需要開發(fā)一種新的加工、電鍍和釬焊性能更好的金屬封裝材料。Al/Si介金就是這樣一種材料,雖然用于封裝的含Si40%的Al/Si合金多年前就已商品化,但直到最近幾年,山于噴射成型技術(shù)的發(fā)展,才使得具有更高Si含量的Al/Si合金制造成功。英國Osprey金屬公司開發(fā)了一系列稱之為可控膨脹(CE)介金的Al/Si合金,顧名思義,可控膨脹合金可以通過改變Al(23.6×10-6K-1)與Si(2.2×10-6-4.3×10-6K-1)相對比例得到二者間任何的CTE值。圖4表示出20℃的CTE隨合金里Si含量的變化。表8列出了Osprey的主要CE合金成分及其性能。

Al/Si合金具有非常好的性能,重量比純Al輕15%,是呵伐重量的1/3,是Cu/W重量的1/6。CTE隨溫度的變化不大,從-50℃—300℃變化不超過10%,使得它與氧化鋁和GaAs在這個方面匹配。它的彈性模量超過110GPa,具有非常高的比剛度(CE7合金為53GPa cm3g-1而可伐為17GPa cm3g-1,Cu/75W為15GPa cm3g-1),因此熱加工穩(wěn)定性優(yōu)良,在加工和使用過程中CE合金仍保持極為平整。致密的Al/70Si(CE7)合金熱導(dǎo)率為120W(m-1K-1),20℃的CTE為6.8×10-6K-1,適合于EMI/RFI屏蔽。另外,巾噴射成形工藝制備的CE合金具有均勻、備向同性的特點(diǎn)和很好的機(jī)加工、鍍覆、焊接特性。日前,CE合金的主要應(yīng)用領(lǐng)域有微波/射頻外殼、光電外殼、功率器件的基板、高頻電路的載體板、散熱片和熱沉、代替?zhèn)鹘y(tǒng)Al合金的普通電子封裝產(chǎn)品、波導(dǎo)和微波濾波器元件等[12,13]。圖5和圖6為CE7在封裝上的實例。

Al/石墨是一種巾石墨纖維增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料。山MMCC公司生產(chǎn)的石墨纖維含量達(dá)到40%的MetGraf 4-230,在20℃-300℃其X和Y平面的CTE為3.0×10-6—5.0×10-6K-1,熱導(dǎo)率高達(dá)230W(m-1K-1)在Z方向CTE為24×10-6K-1,其熱導(dǎo)奉降到120W(m-1K-1),密度僅為2.40gcm-3。石墨纖維含量達(dá)到30%的MetGraf 7-200,在20℃-300℃其X和Y平面的CTE為6.5×10-6-9.5×10-6K-1,熱導(dǎo)率高達(dá)200W(m-1K-1)。在Z方向CTE為24×10-6K-1,其熱導(dǎo)率降到125W(m-1K-1)。密度為2.45gcm-3)。它們主要用于微電子封裝、光電子封裝、激光二極管、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)和功率半導(dǎo)體、散熱片和蓋板等(圖7),主要性能如表9所示[14]。

美國MER(Materials and Electrochemical Research)公司把片狀石墨加入到鋁合金里,制成Al/非連續(xù)碳-石墨復(fù)合材料GFAl-1,在室溫下其X和Y平面的CTE為4.5×10-6-5.0×10-6K-1,熱導(dǎo)率高達(dá)650W(m-1K-1)。在Z方向熱導(dǎo)率為80-110W(m-1K-1)。強(qiáng)度1OOMPa,X和Y平面的剛度大于90-100GPa,密度僅為2.1gcm-3,很容易加工。

早期研究的金剛石增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料熱導(dǎo)率并不比鋁合金好,是顆粒與基體之間傳熱較差的結(jié)果。

最近經(jīng)過工藝的改進(jìn),這種材料性能有了很大提高。MER公司開發(fā)的金剛石增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料,是在鋁合金里含有體積分?jǐn)?shù)直到70%的工業(yè)金剛石顆粒,DAI-1具有幾乎各向同性的熱導(dǎo)率,大約為600W(m-1K-1),體積分?jǐn)?shù)45%-50%的金剛石增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料DAI-3的CTE為7.5×10-6K-1,能通過增加金剛石的尺寸和數(shù)量將CTE進(jìn)一步調(diào)整到5×10-6K-1-7.5×10-6K-1。室溫下這種復(fù)合材料強(qiáng)度大約為450MPa,剛度大于250GPa,大大超過Al/SiC。

Al/Be是由Al和Be組成的合金。但是,工業(yè)上將它視作一種復(fù)合材料。由Brush Wellman公司以商品名AlBeMet生產(chǎn)的Al/Be復(fù)合材料,可以是含有Be的重量百分比20-75的薄板、板、棒或管。在室溫下,AlBeMet AM162(A1/38Be)的CTE為13.2×10-6K-1,熱導(dǎo)率為212W(m-1K-1)。由于密度僅2.07g cm-3,可使用在需要低重量的領(lǐng)域。由于含有Be,因此Al/Be加工時存在健康風(fēng)險。此外材料和加工的費(fèi)用高,Al/Be的價格也比普通鋁及鋁合金至少高一個數(shù)量級。除了用于電路卡芯,也已用于底盤和外殼。

2.3 其他金屬基復(fù)合材料

Silvar是Texas Instruments公司開發(fā)的由銀和鐵合金組成的銀基復(fù)合材料。一類Silvar是由39%的Ag與61%的Invar(Fe,36Ni)組成,是各向同性的控制膨脹復(fù)合材料,其CTE為6.5×10-6K-1,熱導(dǎo)率為153W(m-1K-1)。另一類Silvar由28%Ag與72%的可伐組成,其CTE為7×10-6K-1,熱導(dǎo)率為110W(m-1K-1)。它們比Cu/Mo和Cu/W重量輕,Silvar可用多種方法制備,它可以通過軋制、沖裁、模壓、鍛造和拉拔成型。很容易機(jī)加工或電鍍,且可進(jìn)行軟釬焊和硬釬焊而無需預(yù)先電鍍。也容易與Invar和可伐合金激光焊。典型的用途包括微波載體和熱沉、固體激光器外殼、微電子外殼基板等。如Mini-Systems公司把它用作多芯片GaAs微波外殼,解決了在溫度循環(huán)后包括400℃老煉后芯片面臨的開裂問題。Polese公司已取得專利許可(US 5 050 040和5 039 335)生產(chǎn),表10是這種材料的主要性能指標(biāo)。

BeO是一種硬度高、強(qiáng)度高、導(dǎo)熱優(yōu)良的氧化物,加入到Be中形成鈹基復(fù)合材料(表11)。其中Be/60BeO的CTE為6.1×10-6K-1,與GaAs(5.8×10-6K-1)的接近,其熱導(dǎo)率達(dá)到240W(m-1K-1),密度為2.55gcm-3。上面還可以方便地鍍Ni、Au、Cu、Sn等鍍層,是微波和混合集成電路理想的封裝材料。然而Be和Be0均為有毒物質(zhì),它的CTE隨溫度的升高要比氧化鋁快得多,在硬、軟釬焊后容易造成很大的失配應(yīng)力,此外價格高,所以Be/BeO的應(yīng)用受到很大程度的限制。其他的金屬基復(fù)合材料還有Al/Invar及Mo-Gr-Mo等。

3 結(jié)論

隨著電子封裝朝著高性能、低成本、低密度和集成化方向的發(fā)展,對金屬封裝材料提出越來越高的要求,金屬基復(fù)合材料將為此發(fā)揮著越來越重要的作用,因此,國內(nèi)對金屬基復(fù)合材料的研究和使用將是今后的重點(diǎn)和熱點(diǎn)之一。

本文摘自《電子與封裝》

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