韓國媒體報道，由于DRAM內(nèi)存芯片價格不斷下跌，近期又有華為事件的影響，SK海力士正在計劃推遲位于中國無錫的全球最先進內(nèi)存芯片工廠的投產(chǎn)計劃。

中國市場是SK海力士最大的海外市場，去年中國區(qū)營收占了40%，其中華為就占了12%的營收，但是現(xiàn)在的大環(huán)境變了，不僅華為被制裁影響了市場需求，持續(xù)不斷的內(nèi)存跌價也讓SK海力士面臨虧損的可能。

在這樣的雙重打擊下，接近SK海力士的消息人士稱SK海力士準備推遲無錫C2F工廠的加速量產(chǎn)的計劃，該工廠已經(jīng)在4月份正式竣工，海力士原本計劃在Q3季度加速量產(chǎn)。

SK海力士無錫二廠C2F項目于2016年12月宣布，2017年10月簽約，2017年6月開工，2018年11月開始設備遷入，總投資達86億美元，其中16億美元用于建設3.3萬平米的新廠房和附屬設施，70億美元用于引入全球最先進的內(nèi)存芯片生產(chǎn)設備。

作為現(xiàn)有工廠(C2)的延伸項目，新工廠建設周期2017-2026年，全部完成后將成為全球單體投資規(guī)模最大、月產(chǎn)能最大、技術最先進的10nm級別工藝內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地，月產(chǎn)能可達18萬塊300毫米晶圓，年銷售額可達33億美元。

目前，SK海力士占有中國內(nèi)存芯片市場大約35％的份額，無錫二廠投用后預計可升至超過45％。