〖eNews消息〗英特爾公司今天宣布開設(shè)全球首家300毫米晶片研究實驗室。該實
驗室名為RP1(RP- research and pathfinding表示研究和探索)，耗資2.5億美元，是全球首家
致力于進行基于新型300毫米晶片的先進硅處理技術(shù)研究的實驗室。
英特爾
研究人員將利用RP1開發(fā)下一代照相平板印刷術(shù)(photolithography)、高性能晶體管、先進(銅和
光)互聯(lián)以及（涉及新材料和新化學(xué)過程的）環(huán)保生產(chǎn)工藝。這一新設(shè)施將使英特爾研究人員一如
既往地制造世界上體積最小、性能最佳的晶體管。晶體管越小，運行速度越快。而高速晶體管是高
速微處理器的關(guān)鍵建筑模塊，后者是計算機和無數(shù)其它智能產(chǎn)品的大腦。
英
特爾高級副總裁兼技術(shù)和制造事業(yè)部總經(jīng)理Sunlin Chou博士說：“英特爾的技術(shù)隊伍將通過研
究、探索、開發(fā)和制造階段高效地促進創(chuàng)新。RP1與D1C相鄰，英特爾300毫米技術(shù)過程的各個環(huán)節(jié)
均已到位，將按照摩爾定律開發(fā)更大尺寸的晶片?！?/p>
RP1隸屬英特爾實驗室
下屬英特爾元件研究實驗室。英特爾元件研究實驗室開發(fā)的硅技術(shù)通常要領(lǐng)先英特爾目前的制造工
藝2－3代。
新建的RP1研究設(shè)施擁有56,000平方英尺的潔凈車間
(cleanroom)，與英特爾的開發(fā)工廠D1C和大規(guī)模制造廠Fab20相鄰。RP1將促使英特爾盡快將研究
進展付諸于生產(chǎn)制造。RP1是研究和探索機構(gòu)，區(qū)別于英特爾的開發(fā)工廠。探索是研究和開發(fā)之間
的關(guān)鍵性過渡階段。這極大加快了英特爾將先進技術(shù)應(yīng)用于量產(chǎn)產(chǎn)品的速度。
我們既可以在燒杯里進行小規(guī)模的研究，也能夠成批使用300毫米晶片進行
大規(guī)模研究，所有工作都是在一個實驗室中完成的。”
英特爾實驗室是英特
爾的研發(fā)機構(gòu)，設(shè)施遍及全球，擁有6,000多名研究員和科學(xué)家。英特爾實驗室采用分散的研發(fā)模
式，內(nèi)部研究機構(gòu)實力雄厚，與之相輔相成的是和院校、政府實驗室和業(yè)界聯(lián)營機構(gòu)開展的諸多外
部研究方案。這種結(jié)構(gòu)與業(yè)界傳統(tǒng)的集中式研究實驗室有所不同，使英特爾能夠在更為廣泛的領(lǐng)域
內(nèi)開展研究項目。英特爾實驗室與英特爾業(yè)務(wù)部門密切協(xié)作，使實驗室能夠針對客戶和消費者的需
求進行技術(shù)開發(fā)。
英特爾硅技術(shù)研究詳細情況見英特
爾新開設(shè)的硅展室，網(wǎng)址為www.intel.com/research/silicon。英特爾實驗室科研項目詳細情
況見www.intel.com/labs。
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