IGZO技術(shù)是近來半導(dǎo)體顯示市場最熱門的技術(shù)，不過由于其在成膜過程中存在對氫氣敏感、膜質(zhì)均勻性要求高等特點，大規(guī)模生產(chǎn)過程中存在成品率較低的問題。近日，半導(dǎo)體設(shè)備大廠應(yīng)用材料推出適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產(chǎn)的PVD和PECVD設(shè)備，促進(jìn)IGZO新型顯示屏的大規(guī)模量產(chǎn)實施。

　　IGZO成市場新熱點

市場對顯示屏的需求越來越高：屏幕尺寸不斷擴(kuò)大，今年智能手機(jī)5英寸屏幕逐漸成為主流，明年有望過渡到6.3英寸；分辨率越來越高，電視從高清到超高清，甚至出現(xiàn)4K、8K電視；此外OLED電視、柔性顯示等話題也不斷被炒熱。

要實現(xiàn)上述性能，未來顯示技術(shù)必將從傳統(tǒng)的非晶硅顯示轉(zhuǎn)到金屬氧化物技術(shù)或低溫多晶硅技術(shù)之上。不過，隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，能否形成均勻的IGZO膜質(zhì)，對成品率至關(guān)重要。

為順應(yīng)市場需求，半導(dǎo)體及顯示設(shè)備制造商應(yīng)用材料公司日前推出了適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產(chǎn)的AppliedAKT-PiVot55K/25kDTPVD和AppliedAKT55KSPECVD。應(yīng)材表示，設(shè)備及工藝所提供的膜質(zhì)均勻性和微?？刂菩阅芸蔀榭蛻魧崿F(xiàn)IGZO新型顯示屏大規(guī)模生產(chǎn)提供保障。

　　旋轉(zhuǎn)耙材有利良率提升

針對AKT-PiVotDTPVD設(shè)備(55K用于2200mm×2500mm的玻璃基板，25K用于1500mm×1850mm的玻璃基板)應(yīng)用材料PVD產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理約翰·布什表示，之所以能夠?qū)崿F(xiàn)良好的膜質(zhì)均勻性，與設(shè)備采用的旋轉(zhuǎn)靶材及等離子搖擺控制機(jī)能相關(guān)。首先，旋轉(zhuǎn)耙材的采用可以在耙材旋轉(zhuǎn)過程中，不停地通過冷卻水，使整個耙材表面的冷卻效果更好，達(dá)到溫度的均勻性，進(jìn)而成就比較高的成膜速度。其次，可以大大提高耙材的利用率，與平面耙材相比，旋轉(zhuǎn)耙材的耙材利用率可以達(dá)到80%。再次，旋轉(zhuǎn)耙材可實現(xiàn)氣體均勻分布，IGZO屬于反應(yīng)式濺射，耙材不斷旋轉(zhuǎn)，不斷接受濺射材料，耙材表面可以保持光滑，不會有小結(jié)瘤產(chǎn)生，保障膜質(zhì)的均勻性，減少缺陷面板的形成。最后，旋轉(zhuǎn)耙材還有自清潔功能，平面耙材總會有些區(qū)域不被濺射到，這樣就會造成有些區(qū)域存在殘留物，而旋轉(zhuǎn)耙材不斷旋轉(zhuǎn)，所有表面都會得到利用。此外，旋轉(zhuǎn)耙材還有一個磁極搖擺功能，即通過磁極的搖擺控制等離子體的濺射方向，實現(xiàn)等離子轟擊的均勻性，從而實現(xiàn)膜質(zhì)的均勻性。

針對AKT55KSPECVD設(shè)備(用于2200mm×2500mm的玻璃基板)，應(yīng)用材料CVD產(chǎn)品事業(yè)部肖勁松表示，氫氣是影響IGZO沉積的雜質(zhì)氣體，對其十分敏感，設(shè)備采用了新型二氧化硅(SiO2)工藝作為金屬氧化物晶體管沉積電介質(zhì)界面，最大限度地減少氫氣雜質(zhì)，提高晶體管的長期穩(wěn)定性并優(yōu)化顯示屏性能。

應(yīng)用材料公司副總裁兼顯示事業(yè)部總經(jīng)理謝思源表示，中國顯示市場十分廣闊，在全球市場中扮演著舉足輕重的地位。無論是智能手機(jī)還是平板電腦，都占有很大份額，智能手機(jī)和電視均占全球份額的22%。而且中國相對其他地區(qū)更容易接受新技術(shù)產(chǎn)品，智能電視的市場滲透率達(dá)43%，3DTV的市場滲透率為40%?？梢哉f，現(xiàn)在中國引領(lǐng)著全球平板顯示設(shè)備的投資。