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[導讀]全球掀起高階面板LTPS(低溫多晶硅)、IGZO(金屬氧化物半導體)技術投資熱,應用材料宣布,推出新的物理氣相沉積(PVD)和等離子強化化學氣相沉積(PECVD)技術,可以提供5代、6代到8.5代的設備。AKT指出,其中又以日本、大

全球掀起高階面板LTPS(低溫多晶硅)、IGZO(金屬氧化物半導體)技術投資熱,應用材料宣布,推出新的物理氣相沉積(PVD)和等離子強化化學氣相沉積(PECVD)技術,可以提供5代、6代到8.5代的設備。AKT指出,其中又以日本、大陸投資最積極,明年6代LTPS生產(chǎn)線將陸續(xù)量產(chǎn)。

應用材料宣布,推出新的PVD和等離子強化PECVD技術,Applied AKT-PiVot物理氣相沉積和Applied AKT-PX 等離子強化化學氣相沉積薄膜沉積系統(tǒng)提供高效能、符合成本效益的途徑,帶動先進材料的量產(chǎn)可用來制造更快速、更小巧的薄膜晶體管,適用于液晶顯示器和OLED技術。

蘋果的iPhone與iPad面板,均使用LTPS面板,LTPS也成為了高階行動產(chǎn)品主流技術,帶動投資熱潮。AKT指出,以現(xiàn)況來看,客戶傾向興建6代新廠,相比過去4.5代廠,面板生產(chǎn)成本估計可以降低20%~30%。而目前又以日本和大陸投資最為積極。大陸京東方今年在內(nèi)蒙投資了一條5.5代LTPS生產(chǎn)線,而鴻海集團的天億也在成都砸下人民幣220億元,規(guī)劃3萬片LTPS面板的產(chǎn)能,以及3萬片IGZO產(chǎn)能,預計2013年下半年投產(chǎn)。至于日本的JDI和夏普也都投資了6代LTPS生產(chǎn)線。

AKT顯示器事業(yè)群營銷長Max McDaniel表示,針對采用金屬氧化物TFT,使用專屬的旋轉陰極技術來沉積IGZO,這是具有高電子遷移率的新材料,能形成晶體管通道,克服影響顯示器質(zhì)量的顯示不均缺陷。此外,由PiVot沉積的銦鎵鋅氧化物薄膜突破了TFT 穩(wěn)定性問題,確保OLED可以使用金屬氧化物背板,大幅降低成本。

LTPS技術是一直面臨玻璃基板放大問題和單位制造成本高昂的挑戰(zhàn)。AKT-PX等離子強化化學氣相沉積系統(tǒng)的全新擴充系列產(chǎn)品,可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉積出極為均勻的LTPS薄膜。這些加大的基板,讓面板制造商能夠實現(xiàn)經(jīng)濟規(guī)模,大幅提高產(chǎn)能并降低成本。

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