光刻儀公司延期交貨 臺積電制程研發(fā)恐受影響
[導讀]據(jù)報道，臺積電的光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個月之久。Mapper的多束e-beam光刻儀原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠，不過由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能
據(jù)報道，臺積電的光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個月之久。Mapper的多束e-beam光刻儀原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠，不過由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期，此舉可能對臺積電的制程研發(fā)進度造成一定的影響。
臺積電CEO蔡力行曾稱臺積電已在與合作伙伴聯(lián)合開發(fā)22nm及更高規(guī)格制程用多束e-beam光刻技術(shù)(multiple electron-beam (e-beam) maskless lithography equipment)，以便公司盡早實現(xiàn)向32nm制程的轉(zhuǎn)換。
2008年十月份，臺積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議，根據(jù)這份協(xié)議，Mapper將為臺積電制造300mm多束e-beam光刻設備用于制程開發(fā)，并為該公司提供光刻原型機。
下載文檔本站聲明： 本文章由作者或相關(guān)機構(gòu)授權(quán)發(fā)布，目的在于傳遞更多信息，并不代表本站贊同其觀點，本站亦不保證或承諾內(nèi)容真實性等。需要轉(zhuǎn)載請聯(lián)系該專欄作者，如若文章內(nèi)容侵犯您的權(quán)益，請及時聯(lián)系本站刪除。
換一批
延伸閱讀
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，近日一家名為Daedalus Prime的小公司陸續(xù)對多個半導體巨頭發(fā)起337專利訟訴，其中包含三星電子、高通公司、臺積電等。
關(guān)鍵字： 專利侵權(quán) 三星 臺積電 高通公司 337調(diào)查 USITC
