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[導讀]據(jù)報道,臺積電的光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個月之久。Mapper的多束e-beam光刻儀原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠,不過由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期,此舉可能

據(jù)報道,臺積電光刻儀供應商Mapper公司已經(jīng)將300mm光刻設備交貨日延期近三個月之久。Mapper的多束e-beam光刻原計劃于今年第一 季度裝備臺積電300mm工廠,不過由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期,此舉可能對臺積電的制程研發(fā)進度造成一定的影響。



臺積電CEO蔡力行曾稱臺積電已在與合作伙伴聯(lián)合開發(fā)22nm及更高規(guī)格制程用多束e-beam光刻技術(shù)(multiple electron-beam (e-beam) maskless lithography equipment),以便公司盡早實現(xiàn)向32nm制程的轉(zhuǎn)換。

2008年十月份,臺積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議,根據(jù)這份協(xié)議,Mapper將為臺積電制造300mm多束e-beam光刻設備用于制程開發(fā),并為該公司提供光刻原型機。

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最近看到APP上,給我推送了很多類似的回答,借此機會,也想著重新審視一下自己的學習歷程,以及結(jié)合自身和大牛,分享一些學習經(jīng)驗,希望對大家有所啟發(fā)和幫助。

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