2014年2月14日 -- 納米圖案成形系統(tǒng)與解決方案的市場與技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者 Molecular Imprints Inc. (MII) 今天宣布已簽約將半導(dǎo)體壓印光刻設(shè)備業(yè)務(wù)出售給日本東京的佳能 (Canon Inc.)。佳能目前生產(chǎn)并銷售 KrF 準分子和 i 線照明光學(xué)光刻平臺。為打入尖端高分辨率圖案成形光刻設(shè)備市場，佳能2004年開始研究納米壓印技術(shù)。自2009年以來，該公司一直與 MII 及一家量產(chǎn)型半導(dǎo)體制造商攜手采用 MII 的 Jet and Flash? 壓印光刻 (J-FIL?) 技術(shù)來進行開發(fā)。

Molecular Imprints 行政總裁 Mark Melliar-Smith 表示：「四年前我們與佳能共結(jié)商業(yè)聯(lián)盟以向半導(dǎo)體行業(yè)提供技術(shù)主導(dǎo)型的低成本納米光刻解決方案，我很高興如今我們在追求這一目標上取得了巨大進步。在此成功的基礎(chǔ)上，雙方合并是自然而然的?！?BR>
2011年，佳能進入其「全球優(yōu)良企業(yè)計劃」(Excellent Global Corporation Plan) 的第四階段，該計劃的其中一項策略是通過全球多元化來實現(xiàn)業(yè)務(wù)發(fā)展。佳能技術(shù)總監(jiān) Toshiaki Ikoma 博士說：「收購 MII 將加強我們的『工業(yè)及其他』業(yè)務(wù)部門。由此帶來的創(chuàng)新半導(dǎo)體制造機會讓我們感到非常興奮，我們期待在得克薩斯州奧斯汀建設(shè)出先進的技術(shù)開發(fā)能力。」

得克薩斯大學(xué)奧斯汀分校的 SV Sreenivasan 和 Grant Willson 兩位教授所研發(fā)的技術(shù)為 Molecular Imprints 創(chuàng)立之初的開疆辟土奠定了基礎(chǔ)。過去幾年中，Molecular Imprints 一直與佳能及其他半導(dǎo)體行業(yè)基礎(chǔ)設(shè)施合作夥伴攜手讓整個行業(yè)繼續(xù)依照摩爾定律的指導(dǎo)方向，沖破分辨率的限制，同時避免光學(xué)和極紫外線 (EUV) 光刻成本負擔的加重。最初用于生產(chǎn)的 J-FIL 技術(shù)計劃在未來兩年內(nèi)用于高級閃存。

佳能將把 J-FIL 運用到先進半導(dǎo)體制造中，與此同時，該合并協(xié)議還允許分拆出一家新公司，保留原來的「Molecular Imprints」名稱，而與佳能共同擁有的關(guān)鍵人才和權(quán)利也能保留在 MII 的知識產(chǎn)權(quán)組合中，再加上多個系統(tǒng)平臺能夠支持消費電子和生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用對納米級圖案成形不斷加大的需求，這些都形成了搶占領(lǐng)先地位的優(yōu)勢。Molecular Imprints 營運總監(jiān) David Gino 稱：「我們期待為顯示器、硬盤驅(qū)動器，生物技術(shù)和其他新興市場帶來低成本納米級制造解決方案?！乖谂c佳能的合并協(xié)議完成之前，新的 Molecular Imprints 將被分拆出來，Gino 先生則將擔任這家新公司的行政總裁。

此項合并預(yù)計于2014年4月完成，須獲股東及政府批準。