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Global Foundries宣布2015年將在15nm制程節(jié)點(diǎn)正式啟用EUV光刻技術(shù)

時(shí)間：2010-07-15 19:23:00

關(guān)鍵字： GLOBAL 節(jié)點(diǎn) 光刻技術(shù) EUV

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[導(dǎo)讀]在最近召開的SemiCon West產(chǎn)業(yè)會(huì)議上， Global Foundries 公司宣布他們將在15nm制程節(jié)點(diǎn)開始啟用EUV極紫外光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體芯片。 Global Foundries 公司負(fù)責(zé)制程技術(shù)研發(fā)的高級(jí)副總裁Greg Bartlett還表示，公司將

在最近召開的SemiCon West產(chǎn)業(yè)會(huì)議上， Global Foundries 公司宣布他們將在15nm制程節(jié)點(diǎn)開始啟用EUV極紫外光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體芯片。 Global Foundries 公司負(fù)責(zé)制程技術(shù)研發(fā)的高級(jí)副總裁Greg Bartlett還表示，公司將在紐約Fab8工廠建成后馬上開始在這家工廠部署EUV光刻設(shè)備，按之前 Global Foundries公布的計(jì)劃，這個(gè)時(shí)間點(diǎn)大概是在2012年下半年，與之巧合的是，光刻設(shè)備廠商ASML公司也將于這個(gè)時(shí)間點(diǎn)開始上市EUV光刻設(shè)備。

ASML的EUV Alpha demo tool光刻演示設(shè)備

由于IBM/AMD/Global Foundries一直鼎立支持EUV光刻技術(shù)，他們過(guò)去也曾經(jīng)試用過(guò)ASML的Alpha EUV光刻試驗(yàn)機(jī)，因此將來(lái)他們應(yīng)用起EUV技術(shù)來(lái)應(yīng)該不會(huì)遇上太大的困難。另外 Bartlett還表示Global Foundries公司將于2015年正式啟用EUV光刻設(shè)備進(jìn)行批量生產(chǎn)?？紤]到Global Foundries的計(jì)劃顯示今年底明年初他們將推出32/28nm制程產(chǎn)品，這樣大致估算起來(lái)，32/28nm制程啟用后大約兩年，我們就可以看到 Global Foundries 22nm制程產(chǎn)品的上市，22nm之后再過(guò)兩年，則是使用EUV光刻技術(shù)的15nm制程產(chǎn)品上市。

另一個(gè)令人關(guān)心的問題是，到2015年，也許晶圓的尺寸也已經(jīng)從現(xiàn)在的300mm發(fā)展到450nm直徑了，不過(guò)在Bartlett的講話中并沒有提及這方面的信息。不管怎么樣，圍繞在EUV光刻何時(shí)能投入實(shí)用的問題我們已經(jīng)得到了確切的答案。

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