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[導(dǎo)讀]在最近的SemiCon West產(chǎn)業(yè)會議上, Global Foundries公司對外宣布,將會在15nm制程時開始啟用EUV極紫外光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體芯片。Global Foundries公司高級副總裁Greg Bartlett表示,在紐約Fab 8工廠建成之后的2012


在最近的SemiCon West產(chǎn)業(yè)會議上, Global Foundries公司對外宣布,將會在15nm制程時開始啟用EUV極紫外光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體芯片。Global Foundries公司高級副總裁Greg Bartlett表示,在紐約Fab 8工廠建成之后的2012年下半年將會立刻開始在該工程部署EUV光刻的相關(guān)設(shè)備,與此同時,光刻設(shè)備廠商ASML也將會發(fā)售EUV光刻設(shè)備。


ASML公司的EUV光刻演示設(shè)備

從制程工藝上來看,Global Foundries計劃在今年年底到明年年初推32nm/28nm制程的相關(guān)產(chǎn)品,兩年后將會啟用22nm制程,而再過兩年的2015年初Global Foundries將會啟用15nm制程,屆時EUV光刻技術(shù)將于15nm制程同步上線。IBM、AMD、Global Foundries等廠商一直以來對于EUV光刻技術(shù)都是相當支持的,之前都試用過ASML公司推出的Alpha EUV光刻試驗機,所以在未來的應(yīng)用中也不會有太多的技術(shù)障礙。

從競爭對手方面來看,英特爾原計劃在22nm制程時啟用EUV光刻設(shè)備,因此193nm沉浸式光刻技術(shù)將會被英特爾一直沿用到15nm制程甚至11nm制程;另外臺積電方面則表示會在20nm制程時啟用EUV光刻設(shè)備。由于到2015年,晶圓的尺寸將從目前的 300mm升級到450nm,這對于啟用EUV光刻技術(shù)會有什么影響呢?Global Foundries目前對于這一問題還沒有做出任何的信息反饋。

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