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AMAT投產(chǎn)面向22nm以后工藝的掩模用蝕刻裝置

時(shí)間：2010-09-30 06:35:00

關(guān)鍵字： TETRA 實(shí)時(shí)監(jiān)控 MOS OPTIMIZATION

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[導(dǎo)讀]美國(guó)應(yīng)用材料上市了支持22nm以后工藝的掩模用蝕刻裝置“Centura Tetra X”。擴(kuò)展了現(xiàn)有蝕刻裝置“Tetra III”的功能，并將關(guān)鍵層加工尺寸的均一性（CDU）提高到了2nm。據(jù)應(yīng)用材料介紹，如果使用該裝置，可實(shí)現(xiàn)二

美國(guó)應(yīng)用材料上市了支持22nm以后工藝的掩模用蝕刻裝置“Centura Tetra X”。擴(kuò)展了現(xiàn)有蝕刻裝置“Tetra III”的功能，并將關(guān)鍵層加工尺寸的均一性（CDU）提高到了2nm。

據(jù)應(yīng)用材料介紹，如果使用該裝置，可實(shí)現(xiàn)二次圖形（DP）技術(shù)及SMO（source-mask optimization）技術(shù)中尤其需要的、不依存于圖形尺寸及圖形密度的均勻蝕刻。另外，此次的裝置可配備該公司獨(dú)立開(kāi)發(fā)的工藝實(shí)時(shí)監(jiān)控等功能。使用實(shí)時(shí)監(jiān)控功能后，能夠精密控制硬掩模、MoSi及石英的蝕刻過(guò)程，能以較高的精度制造二元掩模及移相掩模。另外，應(yīng)用材料還表示，此次的裝置已在22nm掩模制造工序上使用，其性能已評(píng)測(cè)完畢。（記者：長(zhǎng)廣恭明）

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