科磊450mm發(fā)展計劃資深總監(jiān)Hubert Altendorfer強調(diào),SP3 450負(fù)責(zé)18寸晶圓第一道檢測過程,符合市場對20奈米(nm)以下制程缺陷和晶圓表面品質(zhì)特性檢測需求;同時,具備12及18寸晶圓同步乘載共用結(jié)構(gòu),將可提高客戶的生產(chǎn)效益與靈活度。TEL副總裁暨企業(yè)行銷總經(jīng)理關(guān)口章久認(rèn)為,18寸晶圓生產(chǎn)設(shè)備與技術(shù)研發(fā)開銷龐大,未來僅有財力雄厚的半導(dǎo)體大廠才能出線。
至于TEL則以提升18寸晶圓制造效率與降低成本為目標(biāo),加緊研發(fā)開放性共通生產(chǎn)平臺。TEL副總裁暨企業(yè)行銷總經(jīng)理關(guān)口章久(Akihisa Sekiguchi)指出,此一概念性平臺將透過TEL標(biāo)準(zhǔn)連接介面,緊密扣連18寸晶圓各段制程設(shè)備;由于采模組化設(shè)計方式,正式量產(chǎn)后預(yù)估僅需1個月時間就能組裝完成。此將提供晶圓代工業(yè)者較佳的產(chǎn)能擴充、制作流程變動彈性,并能快速投產(chǎn)與減輕投資負(fù)擔(dān),更快達成獲利目標(biāo)。
隨著設(shè)備端產(chǎn)品陸續(xù)突破,18寸晶圓發(fā)展已跨出重要的第一步;現(xiàn)階段,國際半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)、全球18寸晶圓推動聯(lián)盟(G450C)正分頭部署通用標(biāo)準(zhǔn)與制程技術(shù),并揭露2013~2018年的階段性目標(biāo),已吸引大量熱錢涌入。
然而,應(yīng)用材料矽晶系統(tǒng)部門副總裁Kirk Hasserjian認(rèn)為,18寸晶圓影響層面甚廣,且相關(guān)設(shè)備、技術(shù)投入金額相當(dāng)龐大,除須解決技術(shù)與創(chuàng)新應(yīng)用等問題外,業(yè)者間亦須協(xié)同合作并共同分?jǐn)傃邪l(fā)成本。
Hasserjian強調(diào),未來,半導(dǎo)體設(shè)備廠、晶片商及晶圓代工業(yè)者須從研發(fā)設(shè)計階段,就展開技術(shù)與資金合作,再回頭改良制程工具,從而優(yōu)化晶圓廠配置(Fab Layout),滿足晶片商對專屬產(chǎn)品效能與品質(zhì)的最終要求。
關(guān)口章久進一步分析,距離2018年實現(xiàn)18寸晶圓量產(chǎn)的目標(biāo)還有數(shù)年,這段期間的投資風(fēng)險與不確定性,將促進晶片商、設(shè)備商、晶圓廠和標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會組織之間的頻繁溝通,借以催生最符合經(jīng)濟效益的產(chǎn)業(yè)分工合作與成本攤提模式。
事實上,即使全球經(jīng)濟狀況詭譎,但著眼于20奈米以下制程與18寸晶圓的市場需求,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)資本支出仍將維持穩(wěn)定成長。據(jù)SEMI調(diào)查報告指出,2012年晶圓廠總支出(含晶圓廠建設(shè)和設(shè)備采購、維護成本)約在590~600億美元,與2011年持平;但2013年則可望成長2~5% 。預(yù)估2016年后,IDM、晶圓代工與封測業(yè)者,將大舉安裝18寸晶圓設(shè)備,整體資本支出金額,將再攀新高峰。