半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備領(lǐng)導(dǎo)者愛德萬測(cè)試為因應(yīng)1X奈米制程光罩缺陷檢測(cè)需求，推出全新多功能整合型量測(cè)掃描式電子顯微鏡E3640，預(yù)計(jì)于2014年6月正式上市。

E3640為愛德萬測(cè)試廣受業(yè)界采用的E3600系列全新電子顯微鏡產(chǎn)品，其精準(zhǔn)度和產(chǎn)出速度已獲得大幅精進(jìn)，并擁有業(yè)界最佳圖樣缺陷檢測(cè)能力，可支援業(yè)界即將面臨的1X奈米制程。除應(yīng)用于標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體微影光罩檢測(cè)外，E3640亦能針對(duì)EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供更高量測(cè)效能。


愛德萬測(cè)試全新多功能整合型量測(cè)掃描式電子顯微鏡系統(tǒng)E3640。
隨著行動(dòng)裝置終端市場(chǎng)需求日漸高漲，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)即將在短期內(nèi)進(jìn)入1X奈米制程量產(chǎn)階段，此重大轉(zhuǎn)變將帶動(dòng)業(yè)界對(duì)于超小尺寸元件高穩(wěn)定性、高精準(zhǔn)度圖樣缺陷檢測(cè)能力的需求。E3640的推出正是回應(yīng)此需求，這套系統(tǒng)可提供領(lǐng)先業(yè)界的精密量測(cè)能力，且功能更先進(jìn)更強(qiáng)大，有助于提升光罩研發(fā)和產(chǎn)出效率。

E3640采用電子光學(xué)鏡頭，導(dǎo)入更高階訊號(hào)處理硬體，突破上一代系統(tǒng)瓶頸，大幅提升量測(cè)復(fù)制效能，并支援1X奈米節(jié)點(diǎn)硬式罩幕開發(fā)與量產(chǎn)評(píng)估。除此之外，在軟體方面，這套新系統(tǒng)也能與其他E3600系列產(chǎn)品相容，讓使用者有效運(yùn)用現(xiàn)有軟體資產(chǎn)。

E3640可與微影模擬工具連結(jié)，讓開發(fā)人員進(jìn)行光罩圖樣模擬設(shè)計(jì)，并透過連結(jié)提供重要圖樣資訊回饋。E3640并可連結(jié)EDA工具取得待測(cè)圖樣座標(biāo)與表貌結(jié)構(gòu)(Topography)，提高「熱點(diǎn)」(亦即光罩上難以修正的復(fù)雜或極小圖樣)的量測(cè)精準(zhǔn)度，使開發(fā)效率獲得顯著提升。此外，E3640承襲愛德萬測(cè)試E3630系統(tǒng)的專利運(yùn)算技術(shù)和多重偵測(cè)器配置設(shè)定，可對(duì)圖樣寬度、高度與側(cè)邊壁面角度進(jìn)行即時(shí)3D觀察量測(cè)與識(shí)別量測(cè)。