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[導(dǎo)讀]ASM International內(nèi)華達(dá)州(納斯達(dá)克代碼: ASMI歐洲阿姆斯特丹證券交易所代碼:ASM),今天推出了其PowerFill(TM)的外延硅(Epi Si)溝槽填充工藝。新工藝可使帶有摻雜物的

ASM International內(nèi)華達(dá)州(納斯達(dá)克代碼: ASMI歐洲阿姆斯特丹證券交易所代碼:ASM),今天推出了其PowerFill(TM)的外延硅(Epi Si)溝槽填充工藝。新工藝可使帶有摻雜物的外延硅深溝無縫隙填充。 PowerFill是一個精湛的工藝技術(shù),因為它是同類流程速度的3倍,降低制造成本,創(chuàng)造了為電源設(shè)備設(shè)計在設(shè)計程度上新的級別。
Fairchild半導(dǎo)體公司是第一家客戶,以處理其先進電源管理器件,已完成其在韓國工廠的核實。對于這種應(yīng)用,ASM的PowerFill的處理可以實現(xiàn)電源管理器件和電路的占用空間,從而減少損耗和生產(chǎn)成本。

“對于離散式功率的要求MOSFETs是要降低電阻導(dǎo)通,降低柵極電荷和提高電流能力” Fairchild的技術(shù)處理主管C.B. Son表示。 “具備PowerFill的Epsilon工具的性能一直令人印象深刻的,其一個重要的有利因素就是我們可以成功地融入這一先進的溝槽外延處理,能我們認(rèn)識到,因成本節(jié)省而帶來的加工吞吐量的顯著改善。”

與其它需要通過外延反應(yīng)堆進行多重傳遞來實現(xiàn)類似設(shè)備結(jié)構(gòu)的處理相比而言,創(chuàng)新后的ASM Epsilon溝槽填補技術(shù)的開發(fā)能夠在無縫隙外延處理一步完成。單一步驟的處理能夠使硅外延處理的吞吐量增加三倍,同時保持無縫隙填充的特性,均勻性好,產(chǎn)量高。ASM外延技術(shù)總監(jiān)Shawn Thomas說到:“這種高速溝槽填充技術(shù)的開發(fā)將是展示ASM與客戶合作,使先進的材料和批量生產(chǎn)外延技術(shù)的一個例證”。

關(guān)于 ASM International

ASM International, 內(nèi)華達(dá)州 (N.V.) 以及其子公司的設(shè)計及制造設(shè)備用于生產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的裝置和材料。該公司提供面向美國,歐洲,日本和亞洲的晶片加工(前端部分)的生產(chǎn)方案以及組裝和包裝(后端部分)的設(shè)施。 ASM International的普通股在納斯達(dá)克交易所(NASDAQ) (代碼ASMI)和Euronext阿姆斯特丹證券交易所(代碼ASM)。欲了解更多信息,請訪問ASMI的網(wǎng)站上 www.asm.com

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