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[導(dǎo)讀]梁德豐,錢省三,梁靜(上海理工大學(xué)工業(yè)工程研究所/微電子發(fā)展中心,上海 200093)摘要:由于半導(dǎo)體制造工藝過(guò)程的復(fù)雜性,一般很難建立其制造模型,不能對(duì)工藝過(guò)程狀態(tài)有效地監(jiān)控,所以迫切需要先進(jìn)的半導(dǎo)體過(guò)程控

梁德豐,錢省三,梁靜(上海理工大學(xué)工業(yè)工程研究所/微電子發(fā)展中心,上海 200093)


摘要:由于半導(dǎo)體制造工藝過(guò)程的復(fù)雜性,一般很難建立其制造模型,不能對(duì)工藝過(guò)程狀態(tài)有效地監(jiān)控,所以迫切需要先進(jìn)的半導(dǎo)體過(guò)程控制技術(shù)來(lái)嚴(yán)格監(jiān)控工藝過(guò)程狀態(tài),而SPC就是其中最重要的一種技術(shù)。本文針對(duì)SPC做了簡(jiǎn)要概述,著重論述了根據(jù)半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝的特點(diǎn)來(lái)實(shí)現(xiàn)其在半導(dǎo)體晶圓廠的實(shí)際應(yīng)用。

關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體;SPC;過(guò)程控制;控制圖

中圖分類號(hào):TN301 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A 文章編號(hào):1003-353X(2004)03-0058-03

1 前言

近年來(lái),半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)歷了快速的改變,技術(shù)的提升也相對(duì)地增加了工藝過(guò)程的復(fù)雜性,而大多數(shù)半導(dǎo)體制造過(guò)程包含許多非線性且復(fù)雜的化學(xué)與物理反應(yīng),難以建立其制造模型,加上檢測(cè)技術(shù)的缺乏,造成無(wú)法及時(shí)得知工藝過(guò)程狀態(tài)而難以對(duì)其進(jìn)行有效監(jiān)控。因此,當(dāng)半導(dǎo)體制造進(jìn)入8英寸、12英寸晶圓生產(chǎn)的主流,面臨更小線寬、工藝日趨復(fù)雜的挑戰(zhàn)時(shí),嚴(yán)格的工藝過(guò)程監(jiān)控已成為基本且重要的要求。國(guó)內(nèi)外各相關(guān)研究單位與半導(dǎo)體廠都在努力尋求如何減少制造成本、降低廢片、改善總體設(shè)備效能(Overall Equipment Effectiveness,OEE)、提高產(chǎn)品良率及產(chǎn)品效能的方法。先進(jìn)的半導(dǎo)體過(guò)程控制技術(shù)(Advanced Process Control,APC)研究的目的就是有效的監(jiān)控工藝過(guò)程與機(jī)臺(tái),以提高良率和總體設(shè)備效能。而統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制(Statistical Process Control,SPC)是目前國(guó)內(nèi)外發(fā)展APC最常用的一種技術(shù),本文將主要論述SPC在半導(dǎo)體晶圓制造廠的應(yīng)用。

2 SPC技術(shù)概述

早期的半導(dǎo)體制造企業(yè)為保證產(chǎn)品質(zhì)量,基本上以工藝檢測(cè)和產(chǎn)品檢驗(yàn)為主要手段進(jìn)行產(chǎn)品的質(zhì)量監(jiān)控,很明顯這是一種事后檢測(cè)的方法,隨著各類使用半導(dǎo)體元器件的電子產(chǎn)品的質(zhì)量需求的提高,對(duì)半導(dǎo)體元器件產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性的提高成了該行業(yè)質(zhì)量管理人員需要研究的重要課題,從80年代中期開(kāi)始,以摩托羅拉為首的美國(guó)一些大型微電子企業(yè)的研究人員發(fā)現(xiàn),如果使工藝過(guò)程始終處于統(tǒng)計(jì)受控狀態(tài),將會(huì)更有效地提高產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性,SPC技術(shù)正是適合了這樣一種需求。

SPC即統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制是基于統(tǒng)計(jì)理論的技術(shù)和方法,通過(guò)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中的工藝參數(shù)質(zhì)量數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析和描圖,實(shí)現(xiàn)對(duì)工藝過(guò)程穩(wěn)定性的實(shí)時(shí)監(jiān)控和預(yù)測(cè),從而達(dá)到發(fā)現(xiàn)異常、及時(shí)改進(jìn)、減少波動(dòng)、保證工藝過(guò)程穩(wěn)定、產(chǎn)品總體質(zhì)量穩(wěn)定可靠之目的。

對(duì)異常波動(dòng)的及時(shí)預(yù)警是SPC的最大特點(diǎn),預(yù)警原理為:應(yīng)用SPC對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析能夠區(qū)分生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)品質(zhì)量的正常波動(dòng)和異常波動(dòng),從而對(duì)生產(chǎn)過(guò)程的異常趨勢(shì)及時(shí)提出預(yù)警。即:SPC能夠在異常因素剛一露出苗頭,尚未造成不合格產(chǎn)品之前就能及時(shí)發(fā)現(xiàn),指導(dǎo)管理人員采取措施消除異常,從而極大的減少了不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生,保證了生產(chǎn)的順暢進(jìn)行,最終提高生產(chǎn)效率。

采用SPC技術(shù)可以:

(1)保證工藝過(guò)程的統(tǒng)計(jì)受控狀態(tài)。當(dāng)檢測(cè)出工藝中異常原因引起波動(dòng)時(shí),立即發(fā)出警報(bào),以便及時(shí)查找原因,采取相關(guān)糾正措施,使工藝一直處于統(tǒng)計(jì)受控狀態(tài);

(2)定量評(píng)定生產(chǎn)線、單道工序或單個(gè)工藝參數(shù)是否處于受控狀態(tài),因此特別適用于生產(chǎn)線的認(rèn)證;

(3)減少對(duì)常規(guī)檢驗(yàn)的依賴性,定時(shí)的觀察以及系統(tǒng)的測(cè)量方法替代了大量的檢測(cè)和驗(yàn)證工作;

(4)成為表征產(chǎn)品內(nèi)在質(zhì)量的重要依據(jù)之一。在半導(dǎo)體行業(yè)界,有很多客戶要求半導(dǎo)體制造企業(yè)在提高產(chǎn)品質(zhì)量的同時(shí)還要提供一份SPC數(shù)據(jù),以證明產(chǎn)品是在受控工藝條件下生產(chǎn)的,而不是僅靠篩選檢測(cè)得到的,表明產(chǎn)品具有較高的內(nèi)在質(zhì)量和可靠性。

3 半導(dǎo)體晶圓制造廠的SPC實(shí)際應(yīng)用

3.1 半導(dǎo)體生產(chǎn)的特點(diǎn)

半導(dǎo)體制造是一個(gè)極其復(fù)雜的過(guò)程,從氧化擴(kuò)散,光刻,刻蝕,洗滌,淀積等大約有不少于三四百個(gè)工序;特別是現(xiàn)在各類專用集成電路的需求猛增,大多數(shù)半導(dǎo)體企業(yè)又從面向庫(kù)存的生產(chǎn)方式轉(zhuǎn)向了面向訂單的生產(chǎn)方式,使晶圓車間的生產(chǎn)模式也由以前大批量的單一品種的生產(chǎn)轉(zhuǎn)為批量的多品種的生產(chǎn)模式,極大的增加了生產(chǎn)過(guò)程的復(fù)雜性。由于生產(chǎn)過(guò)程的復(fù)雜性帶來(lái)了大量的質(zhì)量數(shù)據(jù)以及對(duì)這些數(shù)據(jù)及時(shí)分析的需要,僅依靠手工控制的方法是根本無(wú)法體現(xiàn)SPC技術(shù)的及時(shí)預(yù)警性。因此在實(shí)際的半導(dǎo)體晶圓制造廠中是利用計(jì)算機(jī)輔助SPC技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)質(zhì)量控制的。

3.2 計(jì)算機(jī)輔助SPC系統(tǒng)

SPC系統(tǒng)主要通過(guò)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中的產(chǎn)品質(zhì)量數(shù)據(jù)進(jìn)行在線、離線的采集,實(shí)現(xiàn)對(duì)生產(chǎn)質(zhì)量有關(guān)的數(shù)據(jù)進(jìn)行及時(shí)、準(zhǔn)確、有效的處理和統(tǒng)計(jì)分析,使質(zhì)量人員能在生產(chǎn)過(guò)程中及時(shí)掌握產(chǎn)品質(zhì)量的動(dòng)態(tài),及時(shí)反饋控制,最終達(dá)到企業(yè)保證生產(chǎn)質(zhì)量、降低生產(chǎn)成本的目的。

整個(gè)計(jì)算機(jī)輔助SPC系統(tǒng)包括SPC數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)兩個(gè)部分:

3.2.1 數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)

以客戶/服務(wù)器結(jié)構(gòu)(C/S結(jié)構(gòu))為基本模型,包括數(shù)據(jù)庫(kù)服務(wù)器,數(shù)據(jù)采集/監(jiān)控站點(diǎn),SPC監(jiān)控分析站點(diǎn),SPC監(jiān)控查詢站點(diǎn),SPC異常報(bào)警裝置,基于B/S(Browser/Server)結(jié)構(gòu)的遠(yuǎn)程質(zhì)量查詢站點(diǎn)(選配),SPC控制圖異常回饋裝置等幾大組成部分。圖1是國(guó)內(nèi)某半導(dǎo)體公司SPC數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)模型:

從模型可以看出,數(shù)據(jù)采集是以設(shè)備自動(dòng)采集為主和人工鍵盤(pán)輸入為輔兩種可并發(fā)的數(shù)據(jù)采集方式,極大的加強(qiáng)了采集數(shù)據(jù)的及時(shí)性。這些采集到的數(shù)據(jù)將存儲(chǔ)在SPC數(shù)據(jù)庫(kù)服務(wù)器中并由SPC監(jiān)控和分析點(diǎn)對(duì)這些數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,同時(shí)把結(jié)果反饋到 SPC回饋調(diào)整裝置或報(bào)警裝置來(lái)監(jiān)控生產(chǎn)工藝過(guò)程。

3.2.2 數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)模型

SPC分析系統(tǒng)(如圖2)可提供十幾種控制或監(jiān)視圖表,計(jì)量型圖表有均值-級(jí)差圖(X-R圖),均值-標(biāo)準(zhǔn)差圖(X-S圖),單值-移動(dòng)極差圖(X-MR圖),運(yùn)行圖,指數(shù)加權(quán)移動(dòng)均值圖(EWMA圖)等等,計(jì)數(shù)型圖表包括不合格品率圖(P圖),不合格品數(shù)圖(Pn圖),單位缺陷圖(u圖)等,還有排列圖,直方圖等,同時(shí)可提供大量統(tǒng)計(jì)參數(shù)值:總體均值,總體標(biāo)準(zhǔn)差,樣本均值,樣本標(biāo)準(zhǔn)差,Cp,Cpk, Cpl,Cpu,直方圖偏斜指數(shù)(Skewness),陡度指數(shù)(Kurtosis)等。數(shù)據(jù)查詢、總體監(jiān)控、現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)控、異常報(bào)告都可通過(guò)控制圖表和各統(tǒng)計(jì)參數(shù)來(lái)表達(dá),通過(guò)這些可以幫助用戶從不同的視角去監(jiān)控過(guò)程狀態(tài),及時(shí)發(fā)現(xiàn)問(wèn)題,解決問(wèn)題。

3.3 SPC技術(shù)流程

SPC技術(shù)主要是應(yīng)用數(shù)理統(tǒng)計(jì)分析手段,解決與質(zhì)量管理相關(guān)的技術(shù)問(wèn)題,基本技術(shù)流程如圖3。

在SPC技術(shù)流程應(yīng)注意:

(1)關(guān)鍵工藝過(guò)程節(jié)點(diǎn)及關(guān)鍵工藝參數(shù)的確定,即確定氧化,淀積,刻蝕,擴(kuò)散,離子注入,光刻等。

(2)工藝參數(shù)數(shù)據(jù)采集,即采集材料參數(shù),

握生產(chǎn)工藝運(yùn)行情況,我們還須往意幾個(gè)問(wèn)題:

(1)一般情況下,需要積累多于25組數(shù)據(jù)才能進(jìn)行SPC分析,每組數(shù)據(jù)最好不少于5個(gè),在日常生產(chǎn)中,應(yīng)保持?jǐn)?shù)據(jù)采集的連續(xù)性,并對(duì)每組數(shù)據(jù)進(jìn)行SPC分析,控制圖反映的過(guò)程可能有好的的異常,也可能有壞的異常,而這些異常都說(shuō)明工藝過(guò)程發(fā)生了變化,均應(yīng)進(jìn)行質(zhì)量分析,采取措施,直到確認(rèn)工藝過(guò)程又處于統(tǒng)計(jì)受控狀態(tài)。

(2)輸人計(jì)算機(jī)的數(shù)據(jù)必須及時(shí)真實(shí)可靠,不得進(jìn)行人為篩選;

(3)在數(shù)據(jù)波動(dòng)比較大時(shí),注意分析原材料、設(shè)備和環(huán)境等因素,避免盲目改變工藝條件,以免出現(xiàn)浪費(fèi)。

本文摘自《半導(dǎo)體技術(shù)》

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