上海2025年8月13日 /美通社/ -- 8月12日，富士膠片（中國）投資有限公司（以下簡稱"富士膠片（中國）"）在北京舉行FUJIFILM LTO Ultrium 10（以下簡稱"LTO 10"）數(shù)據流磁帶新品發(fā)布會，正式介紹LTO新一代海量數(shù)據存儲解決方案。

中國計算機行業(yè)協(xié)會信息存儲與安全專委會會長、華中科技大學武漢光電國家研究中心謝長生教授（右二），富士膠片株式會社執(zhí)行董事、富士膠片（中國）董事長兼總裁田中健一（左三），富士膠片（中國）記錄媒體事業(yè)部事業(yè)長深澤快（左二）等嘉賓共同出席新品發(fā)布儀式

近年來，全球數(shù)據量隨著自動駕駛、醫(yī)療影像、物聯(lián)網等技術的普及而持續(xù)增長，進而推動數(shù)據存儲服務商、企業(yè)、研究機構等組織對于高效、安全存儲海量數(shù)據的需求日益增長。富士膠片（中國）記錄媒體事業(yè)部事業(yè)長深澤快先生在致辭中表示，"從最早的醋酸纖維磁帶到此次發(fā)布的LTO 10數(shù)據流磁帶，富士膠片將致力于進一步拓展數(shù)據存儲的邊界，提供更可靠、更經濟的長期存儲解決方案。"

深澤快先生發(fā)表致辭

富士膠片致力于開發(fā)并提供滿足客戶需求、值得信賴的、高性能且高品質的儲存介質和服務，LTO數(shù)據流磁帶專為管理海量數(shù)據而開發(fā)。發(fā)布會上，富士膠片（中國）董事長兼總裁田中健一先生詳細解讀了LTO 10的性能特點。

田中健一先生介紹新品LTO 10數(shù)據流磁帶

LTO 10是富士膠片"LTO Ultrium"系列中首個采用自主研發(fā)的"精細復合型磁性顆粒"技術的產品。該技術融合新一代磁性材料"鍶鐵氧體(SrFe)磁粉"與現(xiàn)有高容量數(shù)據存儲磁帶的"鋇鐵氧體(BaFe) 磁粉"，通過進一步減小磁性材料粒徑并優(yōu)化磁性能，實現(xiàn)了LTO 10單盒最大容量75TB（未壓縮時30TB），是上一代富士膠片產品LTO 9的1.7倍。同時，LTO 10最大傳輸速率為1,000MB/秒（未壓縮時400MB/秒），滿足高速數(shù)據的需要。

LTO 10能夠低成本且安全地存儲數(shù)據。磁帶與硬盤驅動器(HDD)相比，初期導入成本更低^*1，具有經濟效益。在安全性方面，LTO 10采用氣隙間隔技術，數(shù)據可在與網絡隔離狀態(tài)下存儲，顯著降低因系統(tǒng)故障、勒索病毒或黑客攻擊導致數(shù)據丟失或損毀的風險，確保重要數(shù)據的安全存儲。

FUJIFILM LTO Ultrium 10 數(shù)據流磁帶

田中健一先生特別提到："記錄媒體事業(yè)是富士膠片業(yè)務新的增長引擎。過去三年，中國區(qū)磁帶業(yè)務規(guī)模不斷增長，富士膠片制造生產的磁帶在全球存儲磁帶市場份額進一步擴大。用創(chuàng)新驅動價值、用技術守護價值是我們不變的初心。"

謝長生教授發(fā)表演講

此外，謝長生教授也在演講《冷數(shù)據的特征與存儲之道》中表示："磁帶技術有著長期技術積累，成熟度高，并在不斷發(fā)展。AI大數(shù)據時代，磁帶存儲在成本上的優(yōu)勢進一步凸顯。LTO 10為磁帶技術的后續(xù)發(fā)展提供了技術基礎。" 富士膠片LTO 10以其75TB大容量、氣隙間隔防護技術，能夠在AI訓練與模型數(shù)據長期歸檔、金融安防合規(guī)存儲、高價值媒體資產守護等數(shù)據存儲場景滿足客戶需求。

多年來，富士膠片持續(xù)創(chuàng)新數(shù)據存儲介質與解決方案，不斷突破磁帶單位面積記錄密度的極限、強化數(shù)據安全與長期保存能力，幫助用戶應對數(shù)據合規(guī)性、安全性與成本挑戰(zhàn)。聚焦大數(shù)據時代的需求和可持續(xù)發(fā)展目標，富士膠片將繼續(xù)以技術為著力點，持續(xù)開發(fā)并提供滿足客戶需求、值得信賴的、高性能且高品質的儲存介質和服務，助力夯實社會數(shù)字化轉型與可持續(xù)發(fā)展的數(shù)據底座。