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[導(dǎo)讀]一直以來,MOS管都是大家的關(guān)注焦點(diǎn)之一。因此針對大家的興趣點(diǎn)所在,小編將詳細(xì)解讀MOS管加電阻的原理,可謂全網(wǎng)最全,詳細(xì)內(nèi)容請看下文。

一直以來,MOS管都是大家的關(guān)注焦點(diǎn)之一。因此針對大家的興趣點(diǎn)所在,小編將詳細(xì)解讀MOS管加電阻的原理,可謂全網(wǎng)最全,詳細(xì)內(nèi)容請看下文。

一、MOS管的構(gòu)造

MOS管的構(gòu)造是在一塊摻雜濃度較低的P型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個(gè)高摻雜濃度的 N+區(qū),并用金屬鋁引出兩個(gè)電極,分別作為漏極D和源極S。然后在漏極和源極之間的P型半導(dǎo)體表面復(fù)蓋一層很薄的二氧化硅(Si02)絕緣層膜,在再這個(gè)絕緣層膜上裝上一個(gè)鋁電極,作為柵極G。這就構(gòu)成了一個(gè)N溝道(NPN 型)增強(qiáng)型MOS管。它的柵極和其它電極間是絕緣的。

同樣用上述相同的方法在一塊摻雜濃度較低的N型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個(gè)高摻雜濃度的P+區(qū),及上述相同的柵極制作過程,就制成為一個(gè)P溝道(PNP型)增強(qiáng)型MOS管。圖1-1所示(a )、(b)分別是P溝道MOS管道結(jié)構(gòu)圖和代表符號。

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

2、MOS 管的工作原理:

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

從圖1-2-(a)可以看出,增強(qiáng)型MOS管的漏極D和源極S之間有兩個(gè)背靠背的PN結(jié)。當(dāng)柵-源電壓VGS=0 時(shí),即使加上漏-源電壓VDS,總有一個(gè)PN結(jié)處于反偏狀態(tài),漏-源極間沒有導(dǎo)電溝道(沒有電流流過),所以這時(shí)漏極電流ID=0。此時(shí)若在柵-源極間加上正向電壓,圖 1-2-(b)所示,即VGS>0,則柵極和硅襯底之間的SiO2絕緣層中便產(chǎn)生一個(gè)柵極指向P型硅襯底的電場,由于氧化物層是絕緣的,柵極所加電壓 VGS無法形成電流,氧化物層的兩邊就形成了一個(gè)電容,VGS等效是對這個(gè)電容充電,并形成一個(gè)電場,隨著VGS逐漸升高,受柵極正電壓的吸引,在這個(gè)電容的另一邊就聚集大量的電子并形成了一個(gè)從漏極到源極的N型導(dǎo)電溝道,當(dāng)VGS大于管子的開啟電壓VT(一般約為2V)時(shí),N溝道管開始導(dǎo)通,形成漏極電流ID,我們把開始形成溝道時(shí)的柵-源極電壓稱為開啟電壓,一般用VT表示。控制柵極電壓VGS的大小改變了電場的強(qiáng)弱,就可以達(dá)到控制漏極電流 ID的大小的目的,這也是MOS管用電場來控制電流的一個(gè)重要特點(diǎn),所以也稱之為場效應(yīng)管。

二、詳細(xì)分析、解讀MOS管加電阻的原理

我們經(jīng)常會聽到在MOSFET柵極前增加一個(gè)電阻。那么,為什么要增加這個(gè)電阻,進(jìn)一步地來講,為什么要增加一個(gè)100Ω電阻? 在MOSFET的柵極前增加一個(gè)電阻?從本質(zhì)上來講,MOS管工作時(shí)柵極上并不需要串聯(lián)任何電阻。還有一種情況,也就是MOS管柵極存在的寄生電容。一般為了加快MOS管導(dǎo)通和截止的速度,降低其導(dǎo)通和截止過程中的產(chǎn)生損耗,柵極上的等效電阻是應(yīng)該越小越好,最好為0。

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

但我們卻經(jīng)常會看到關(guān)于MOSFET的電路中,柵極前串聯(lián)著一個(gè)電阻。如下圖:

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

那為什么要串聯(lián)這個(gè)電阻呢? 在開關(guān)狀態(tài)下,通常解釋就是為了防止MOSFET在開關(guān)過程中會產(chǎn)生震蕩波形,因?yàn)檫@會增加MOSFET開關(guān)損耗,不僅如此,如果震蕩過大,還會引起MOS管被擊穿。再進(jìn)一步講,為什么電阻是100Ω呢? 我在網(wǎng)上看到一個(gè)仿真試驗(yàn),實(shí)驗(yàn)在MOSFET電路中的柵極串聯(lián)電阻R3,分別對它取1歐姆,10歐姆,50歐姆進(jìn)行仿真實(shí)驗(yàn): a. 當(dāng)R3為1歐姆時(shí),輸出電壓Vds上出現(xiàn)高頻震蕩信號。 b. 當(dāng)R3為10歐姆時(shí),輸出電壓Vds的高頻震蕩信號明顯被衰減。 c. 當(dāng)R3為50歐姆時(shí),輸出電壓Vds的上升沿變得緩慢。其柵極電壓上,因?yàn)槁O-柵極之間的米勒電容效應(yīng)引發(fā)了臺階。此時(shí)對應(yīng)的MOS管的功耗大大增加。 簡單來說,如果它的取值小了,就會引起輸出振鈴,如果大了就會增加MOS管的開關(guān)過渡時(shí)間,從而增加其功耗。 是不是看到這里,還是不太清楚選值為100Ω的作用在哪里?我們以上面提到的開關(guān)震蕩再進(jìn)深一步探討。這是一張MOSFET的驅(qū)動電路圖:

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

功率MOS管的驅(qū)動電路中會分布各種電感,例如圖中的L,它們與MOSFET的Cgd, Cge會形成諧振電路:對開關(guān)驅(qū)動信號中的高頻諧波分量產(chǎn)生諧振,進(jìn)而引起功率管輸出電壓的波動。 MOS管的柵極串聯(lián)電阻Rg,會增大MOS管驅(qū)動回路中的損耗,然后降低諧振回路的Q值,使得電感與電容諧振現(xiàn)象快速衰減。 在這里我們可以理解到,MOS管柵極上所串聯(lián)的電阻,是根據(jù)具體的MOS管和電路分布雜散電感來確定。 這跟我們上面提到阻值影響相關(guān)的,下面會詳細(xì)提到:

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

一步步解讀MOS管加電阻的原理(超多原理圖、分析圖)

如上圖,當(dāng)Rg值比較小時(shí),驅(qū)動電壓上沖會比較高,震蕩較多,L(電感)越大也越明顯,此時(shí)會對MOSFET及其他器件性能產(chǎn)生一定影響。 此外,驅(qū)動電流的峰值也比較大,但是一般情況下,IC的驅(qū)動電流輸出能力是有一定限制的。 當(dāng)阻值過大時(shí),實(shí)際驅(qū)動電流達(dá)到IC輸出的最大值時(shí),IC輸出就相當(dāng)于一個(gè)恒流源,會對Cgs線性充電,驅(qū)動電壓波形的上升率會變慢。 而驅(qū)動波形上升比較慢的話,如果MOSFET有較大電流通過時(shí)就有不利影響。 可以得出,阻值過大過小都是對MOSFET驅(qū)動電路產(chǎn)生一定不利影響的,而如何確定出合適的阻值,一般是根據(jù)管子的電流容量和電壓額定值以及開關(guān)頻率,來選取Rg的數(shù)值。

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