TFT-LCD液晶屏是通過(guò)怎樣的制造工藝來(lái)發(fā)揮出其在顯示屏中的巨大優(yōu)勢(shì)的呢，本文重點(diǎn)是由深圳市興宇合電子技術(shù)人員為大家詳細(xì)介紹 TFT-LCD的制造工藝流程，希望對(duì)大家有所幫助。

一、TFT-LCD的制造工藝流程有以下幾部分

①、在TFT基板上形成 TFT 陣列;

②、在彩色濾光片基板上形成彩色濾光圖案及 ITO 導(dǎo)電層;

③、用兩塊基板形成液晶盒;

④、安裝外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝。

二、在 TFT基板上形成TFT陣列的工藝

現(xiàn)已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的 TFT 類型包括：非晶硅 TFT ( a-Si TFT )、多晶硅 TFT ( p-Si TFT )、單晶硅 TFT(c-Si TFT) 幾種。目前使用的仍是 a-Si TFT 。

a-Si TFT的制造工藝如下：

①、先在硼硅玻璃基板上濺射柵極材料膜，經(jīng)掩膜曝光、顯影、干法蝕刻后形成柵極布線圖案。一般掩膜曝光用步進(jìn)曝光機(jī)。

②、用 PECVD 法進(jìn)行連續(xù)成膜，形成 SiNx 膜、非摻雜 a-Si 膜，摻磷 n+a-Si 膜。然后再進(jìn)行掩膜曝光及干法蝕刻形成 TFT 部分的 a-Si 圖案。

③、用濺射成膜法形成透明電極( ITO 膜)，再經(jīng)掩膜曝光及濕法蝕刻形成顯示電極圖案。

④、柵極端部絕緣膜的接觸孔圖案形成則是使用掩膜曝光及干法蝕刻法。

⑤、將 AL 等進(jìn)行濺射成膜，用掩膜曝光、蝕刻形成 TFT 的源極、漏極以及信號(hào)線圖案。用 PECVD 法形成保護(hù)絕緣膜，再用掩膜曝光及干法蝕刻進(jìn)行絕緣膜的蝕刻成形， ( 該保護(hù)膜用于對(duì)柵極以及信號(hào)線電極端部和顯示電極的保護(hù) ) 。

TFT陣列工藝是 TFT-LCD制造工藝的關(guān)鍵 , 也是設(shè)備投資很多的部分，整個(gè)工藝要求在很高的凈化條件(例如 10 級(jí))下進(jìn)行。

三、 在彩色濾光片( CF )基板上形成彩色濾光圖案的工藝

彩色濾光片著色部分的形成方法有染料法、顏料分散法、印刷法、電解沉積法、噴墨法。目前以顏料分散法為主。

顏料分散法的是將顆粒均勻的微細(xì)顏料(平均粒徑小于 0.1 μ m ) (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光樹(shù)脂中。然后將它們依次用涂敷、曝光、顯影工藝方法，依次形成 R. G. B 三色圖案。在制造中使用光蝕刻技術(shù)，所用裝置主要是涂敷、曝光、顯影裝置。

為了防止漏光，在 RGB 三色交界處一般都要加黑矩陣( BM )。以往多用濺射法形成單層金屬鉻膜，現(xiàn)在也有改用金屬鉻和氧化鉻復(fù)合型的 BM 膜或樹(shù)脂混合碳的樹(shù)脂型 BM 。

此外，還需要在 BM 上制作一層保護(hù)膜及形成 IT0 電極 , 由于帶有彩色濾光片的基板是作為液晶屏的前基板與帶有 TFT 的后基板一起構(gòu)成液晶盒。所以必須關(guān)注好定位問(wèn)題，使彩色濾光片的各單元與 TFT 基板各像素相對(duì)應(yīng)。

四、液晶盒的制備工藝

在上下基板表面分別涂敷聚酰亞胺膜并通過(guò)摩擦工藝，形成可誘導(dǎo)分子按要求排列的取向膜。之后在 TFT 陣列基板周邊布好密封膠材料，并在基板上噴灑襯墊。同時(shí)在 CF 基板的透明電極末端涂布銀漿。然后將兩塊基板對(duì)位粘接，使 CF 圖案與 TFT 像素圖案一一對(duì)正，再經(jīng)熱處理使密封材料固化。在印刷密封材料時(shí)，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。

近年來(lái) , 隨著技術(shù)進(jìn)步和基板尺寸的不斷加大 , 在盒的制作工藝上也有很大的改進(jìn) , 比較有代表性的是灌晶方式的改變 , 從原來(lái)的成盒后灌注改為 ODF 法 , 即灌晶與成盒同步進(jìn)行。另外 . 墊襯方式也不再采用傳統(tǒng)的噴灑法 , 而是直接在陣列上用光刻法制作。

五、外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝工藝

在液晶盒制作工藝完成后，在面板上需要安裝外圍驅(qū)動(dòng)電路，再在兩塊基板表面貼上偏振片。如果是透射型 LCD. 還要安裝背光源。

材料和工藝是影響產(chǎn)品性能的兩個(gè)主要因素，TFT-LCD 經(jīng)過(guò)上面四道主要制程，大量繁雜的制作工藝才形成我們所看到的產(chǎn)品。

是什么?這個(gè)在這里就不給大家介紹了，需要了解的在網(wǎng)站的產(chǎn)品介紹頁(yè)面也是有的哦。

TFT-LCD主要的三段制程：

首先是前段Array

前段部分的Array 制程和半導(dǎo)體制程相似，但是不同的是將薄膜電晶體制作在玻璃之上，而不是矽晶圓上面。

然后是中段Cell

中段部分的Cell ，是以前段的Array玻璃作為基板，和彩色的濾光片玻璃基板相結(jié)合，并且在兩片玻璃基板之間灌入液晶(LC)。

最后是后段Module Assembly (模組組裝)

后段模組的組裝制程則是將Cell制程之后的玻璃和其他的如電路、外框、背光板等等多種零組件組裝生產(chǎn)的作業(yè)。

TFT-LCD面板的制作流程：薄膜晶體管液晶顯示屏TFT-LCD)的模塊

薄膜晶體管液晶顯示器模塊：TFT-LCD：三明治一樣的構(gòu)造

就如同三明治一樣，將液晶夾雜在兩片玻璃基板之間，這兩片玻璃基板呢，就是TFT Array玻璃和彩色的濾光片。 在TFT Array玻璃的上面有著無(wú)數(shù)的畫素(pixel)排列著，而彩色的濾光片則是畫面顏色的重要來(lái)源，液晶呢便夾雜在TFT Array以及彩色的濾光片之間。 當(dāng)電壓在TFT(晶體管)的時(shí)候，液晶轉(zhuǎn)向，那么光線便穿過(guò)了液晶在面板上面產(chǎn)生了一個(gè)畫素，而此光源呢，則是由背光模塊所負(fù)責(zé)提供的。此時(shí)，彩色的濾光片給予了每一個(gè)畫素特定的一個(gè)顏色。結(jié)合了每一個(gè)不同顏色的畫素最后所呈現(xiàn)出的，就是面板前端的影像了。

TFT-LCD：三明治一樣的構(gòu)造：

經(jīng)過(guò)300道以上的制程而產(chǎn)生

TFT-LCD必須是在精密的無(wú)塵室之內(nèi)，經(jīng)過(guò)300道以上的制程而生產(chǎn)出來(lái)的。無(wú)塵室的最高潔凈度等級(jí)可以達(dá)到「10 」(即：在無(wú)塵室的環(huán)境之內(nèi)，每立方尺最多只有10顆粉塵)。

經(jīng)過(guò)300道以上的制程產(chǎn)生過(guò)程：

TFT-LCD 工廠—— 世代和尺寸

TFT-LCD 的工廠從以前的1代工廠演進(jìn)到了現(xiàn)今的7.5代工廠，各個(gè)世代的廠房差別就是在于玻璃基板的一個(gè)尺寸。玻璃基板越大，便就能切割出更大尺寸的面板。舉例來(lái)說(shuō)呢，一片7.5代的玻璃基板尺寸達(dá)到了195公分 X 225公分，它的大小更是大于一張加大的雙人床，它呢就可以被切割成八片42寸的面板，或是6片46寸的面板。

通過(guò)前玻璃基板/彩色濾光基板工藝過(guò)程形成精確排列的彩色濾光層。

1、薄膜基板工藝形成薄膜晶體管液晶(TFT)陣列及顯示器像素控制所用其它電子元件。

每個(gè)像素一般對(duì)應(yīng)三個(gè)薄膜晶體管液晶(TFT),每個(gè)像素控制一個(gè)共同構(gòu)成一個(gè)像素的“色點(diǎn)”。薄膜形成工藝采用與半導(dǎo)體制造技術(shù)相類似的CVD、Etch及PVD等工藝技術(shù)。此類工藝步驟應(yīng)反復(fù)數(shù)次,連續(xù)膜層方可形成一個(gè)功能元件

2、兩塊基板合二為一,中間注入液晶材料。

3、 最后組裝背光及驅(qū)動(dòng)電子元件,制造出TFT液晶屛模塊。

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