目前，全球的缺芯現象還在持續(xù)，各國都在積極布局半導體。而這其中有一個最為關鍵的設備，現在誰也繞不開，那就是光刻機。也因此，光刻機行業(yè)的領先玩家荷蘭ASML的一舉一動都備受關注。最近，這家企業(yè)還做出了兩個重要決定。

我們知道，現在能夠獨立生產光刻機的企業(yè)不多，主要就是荷蘭ASML和日本的尼康、佳能，還有我國的上海微電子。而荷蘭ASML能夠在光刻機領域處于壟斷地位，關鍵是它壟斷了高端光刻機，尼康、佳能和上海微電子只能生產中低端的。

只有荷蘭ASML這一家能夠生產EUV光刻機，原因也是因為當年英特爾同意它加入了EUV LLC組織，拒絕日本光刻機企業(yè)加入，讓其獨享了該組織的EUV技術。但也因此，ASML之后需要每年定期接受相關檢查，并且以后也一直受到相關限 制。

半導體權威機構imec前不久發(fā)布業(yè)內的最新消息，其中最重要的消息就是High NA(高數值孔徑)EUV光刻機，ASML提前將其提前量產，0.55NA的下代EUV光刻機一號試做機可能在2026年量產。

ASML透露，首臺NA EUV光刻機2023年開放早期測試，并從2025年開始量產，但是分析人士認為這并不現實。為啥要研制新一代的光刻機，之前的不好使嗎?光刻機的迭代，使這種設備擁有了更高的光刻分辨率、更高效的生產效率、更簡單的光刻工藝。相對應的，光刻機設備與芯片制程工藝相匹配，目前，最先進的芯片制程工藝為3nm，現有EUV光刻機還能夠滿足其需求，但對于下一代2nm制程工藝而言，有點不夠看，就需要High NA EUV光刻機將重任一肩挑起。

所謂High NA EUV光刻機，就是通過調大透鏡的參數使光刻機擁有更高的分辨率，它的工作原理與EUV基本一致，但它的特使鏡頭能夠向兩個方向同時放大，一個放大8倍，一個放大4倍。這可以讓光線以更多角度穿過光罩，提升成像圖案的分辨率，并成為解決與EUV 多重圖案相關成本問題的關鍵。憑借這點，這臺機器生產的芯片應該是史上處理速度最快、效率最高的。

為什么不看好High NA EUV光刻機2025年進行量產呢?業(yè)內人士稱，一臺High NA光刻機的成本預計為3.168億美元，但事實上總成本可能更高，因為這套全新的系統(tǒng)需要新設備、新光掩模和不同的光刻膠才能運轉。供應商們都在竭盡全力的研發(fā)新技術，但與目標依然存在一些差距。

關注芯片產業(yè)發(fā)展的朋友們都知道，作為芯片產業(yè)的上游，光刻機設備是目前芯片制造中的關鍵設備，特別是生產高端芯片必須要用到EUV光刻機。而EUV光刻機只有荷蘭ASML這一家公司能夠集成制造，由于EUV光刻機本身的制造極其復雜，因此ASML每年交付的EUV光刻機數量有限，而且每臺價格高達1.5億歐元，即便是這種情況下，該款設備依舊供不應求。

不過，對于壟斷全球高端光刻機市場的ASML來說，第一的寶座并不是高枕無憂的。由于ASML并沒有自主決策權，在被限制不能自由銷售EUV光刻機的情況下，ASML曾多次申請出貨許可，甚至聯(lián)合臺積電和高通等企業(yè)一起申請，爭取獲得EUV光刻機的出貨許可，然而至今只有高通拿到了部分的出貨許可。

據了解，ASML新一代的光刻機在NA值上比上一代的數值有所上升，從0.33的數值上升到了0.55，具備了更高的曝光精準度。與此同時，在單位時間上所可以曝光的晶圓數量也提升了不少。只不過，雖然這一代的新光刻機比起老一代來說優(yōu)勢很明顯，但也有一個“短板”，那就是售價極為的高昂，已經超過了3億美元的售價。

但盡管如此高昂的售價，也還是有企業(yè)對其很感興趣。其中就有三星跟英特爾。三星表示想優(yōu)先獲得新一代的光刻機，而英特爾則表態(tài)說明他們將優(yōu)先獲得新一代的光刻機?？梢钥吹?，三星跟英特爾的言論是有區(qū)別的，三星只是表達了自己想要的想法，但是英特爾卻表示他們已經有所機會。

從這一點我們就能知道，面對新一代的光刻機，ASML給了英特爾一個優(yōu)先的權利。事實上，ASML的態(tài)度并不讓人意外，因為在此前ASML就表過態(tài)會將優(yōu)先權給到英特爾，而不是此前的臺積電。當時就有不少業(yè)界人士猜測，在今后的日子里或許英特爾都會享有這個優(yōu)先的權利，現如今來看這果不其然。

只是有些好奇的是，就算ASML此前沒有表態(tài)要優(yōu)先給三星，三星也一樣對新的機器表現出了比較期待的態(tài)度?？墒桥_積電卻沉默了。面對高昂售價的新一代光刻機，臺積電并沒有表現出他們強烈需求的欲望。