次世代微影技術(shù)主流之爭(zhēng)
目前次世代微影技術(shù)發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn)，而身為深紫外光 (EUV)陣營(yíng)主要推手之一的比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出，EUV技術(shù)最快于2014年可望進(jìn)入量產(chǎn)，而應(yīng)用存儲(chǔ)器制程又將早于邏輯制程，他也指出，無(wú)光罩多重電子束恐怕來(lái)不及進(jìn)入量產(chǎn)。
目前次世代微影技術(shù)主要包括深紫外光、無(wú)光罩多重電子及浸潤(rùn)式微影多重曝光技術(shù)，然由于各種技術(shù)成本相對(duì)上都還高，發(fā)展也尚未成熟，因此次世代微影技術(shù)尚未有明顯的主流。
IMEC 在納米電子上向來(lái)具有先端研究技術(shù)，同時(shí)也與設(shè)備大廠愛(ài)司摩爾(ASML)進(jìn)行多年的EUV技術(shù)研發(fā)，也為EUV陣營(yíng)的主要代表之一。不過(guò)目前EUV技術(shù)最為人所詬病的在于EUV機(jī)臺(tái)、光罩與外圍材料設(shè)備都造價(jià)高昂，恐怕沒(méi)有幾家晶圓廠能夠負(fù)擔(dān)，即便制程順利開(kāi)發(fā)成功，也少有客戶有能力采用。
因此目前臺(tái)積電也極力投入無(wú)光罩多重電子束制程開(kāi)發(fā)，由于該制程不需要光罩，且設(shè)備造價(jià)也不若EUV機(jī)臺(tái)來(lái)的高昂，也提供了EUV之外的另一個(gè)選擇。更重要的是，讓過(guò)去幾年聲勢(shì)浩大的EUV，能夠有抗衡的對(duì)象。
Luc Van den hove指出，IMEC向來(lái)專注投入EUV技術(shù)研發(fā)，即便EUV技術(shù)在光罩及光阻等多面向上，仍有待改進(jìn)，不過(guò)成熟度高，發(fā)展時(shí)間也較久，未來(lái)幾年成本也將會(huì)下滑，適合于大量生產(chǎn)。他預(yù)估，2014年EUV技術(shù)將具有成本效益，開(kāi)始進(jìn)入量產(chǎn)，首先會(huì)采用EUV制程的應(yīng)是存儲(chǔ)器廠商，用于20納米制程，至于邏輯制程則會(huì)較晚，預(yù)計(jì)將用于16納米制程。
Luc Van den hove也表示，半導(dǎo)體業(yè)界的確需要EUV外有別的選擇方案，不過(guò)電子束過(guò)去一段時(shí)間投入的研發(fā)資源不夠，開(kāi)發(fā)尚未成熟，尤其不適合用于存儲(chǔ)器制程，只適合用于小量生產(chǎn)，恐怕也趕不上業(yè)界量產(chǎn)的時(shí)程。
在 EUV陣營(yíng)方面，ASML日前宣布，首臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)已于本月正式出貨，預(yù)計(jì)到2011年中為止，還有5臺(tái)將陸續(xù)出貨。同時(shí)，ASML也正在著手研發(fā)第3代 EUV機(jī)臺(tái)NEX:3300，目前已有8套訂單，將于2012年開(kāi)始出貨。因此業(yè)界對(duì)于未來(lái)1年EUV機(jī)臺(tái)進(jìn)廠后的成果也十分關(guān)注，將是次世代微影技術(shù)發(fā)展的重要里程碑。
下載文檔據(jù)業(yè)內(nèi)消息，昨天半導(dǎo)體光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭ASML公司發(fā)布了今年Q3季度的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)， 其中銷售額和利潤(rùn)均好于預(yù)期，凈預(yù)訂數(shù)據(jù)更是創(chuàng)新紀(jì)錄。
關(guān)鍵字： ASML據(jù)彭博社2月9日的消息，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）警告稱，一家此前被指控竊取其商業(yè)機(jī)密的中國(guó)公司的關(guān)聯(lián)公司已開(kāi)始銷售疑似侵犯其知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。
關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 知識(shí)產(chǎn)權(quán)Flash Memory 是一種非易失性的存儲(chǔ)器。在嵌入式系統(tǒng)中通常用于存放系統(tǒng)、應(yīng)用和數(shù)據(jù)等。在 PC 系統(tǒng)中，則主要用在固態(tài)硬盤以及主板 BIOS 中。
關(guān)鍵字： Flash 存儲(chǔ)器 嵌入式系統(tǒng)
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