[導讀]位于上海浦東張江高科技園區(qū)的盛美半導體設備（上海）有限公司12英寸45納米半導體單片清洗設備，11日正式啟運運往韓國知名存儲器廠商海力士，這也是國內首臺具有自主知識產權的高端12英寸半導體設備進入韓國市場。盛
位于上海浦東張江高科技園區(qū)的盛美半導體設備（上海）有限公司12英寸45納米半導體單片清洗設備，11日正式啟運運往韓國知名存儲器廠商海力士，這也是國內首臺具有自主知識產權的高端12英寸半導體設備進入韓國市場。
盛美半導體設備（上海）有限公司首席執(zhí)行官王暉博士介紹說，這臺設備作為量產設備，裝備了8個獨立的清洗腔，并運用全球獨有的、具有自主知識產權的SAPS兆聲波（空間交變相移技術），最大產出率可達到每小時400片，為45納米和32納米節(jié)點硅片清洗提供了高效、零損傷的顆粒及污染去除方案。
當今半導體清洗技術中的最大難題是對機械損傷和去除效率的控制。隨著半導體芯片體積的不斷縮小，影響硅片良率的粒子也越來越小，顆粒越小則越難清洗；同時，45納米以下芯片的門電極與電容結構越來越脆弱，在清洗中避免損傷芯片微結構的難度也在不斷加大。
兆聲波技術能夠通過氣穴振蕩來推動微顆粒離開硅片表面，但技術難點在于如何控制兆聲波在硅片表面的能量。王暉博士介紹說，由盛美半導體自主研發(fā)的SAPS兆聲波技術，利用空間交變相移原理可以對兆聲波的能量進行精確控制，將12英寸硅片面內兆聲波非均勻度控制在2%以內，一舉解決了困擾業(yè)界多年的棘手問題。
盛美半導體設備（上海）有限公司首席執(zhí)行官王暉博士介紹說，這臺設備作為量產設備，裝備了8個獨立的清洗腔，并運用全球獨有的、具有自主知識產權的SAPS兆聲波（空間交變相移技術），最大產出率可達到每小時400片，為45納米和32納米節(jié)點硅片清洗提供了高效、零損傷的顆粒及污染去除方案。
當今半導體清洗技術中的最大難題是對機械損傷和去除效率的控制。隨著半導體芯片體積的不斷縮小，影響硅片良率的粒子也越來越小，顆粒越小則越難清洗；同時，45納米以下芯片的門電極與電容結構越來越脆弱，在清洗中避免損傷芯片微結構的難度也在不斷加大。
兆聲波技術能夠通過氣穴振蕩來推動微顆粒離開硅片表面，但技術難點在于如何控制兆聲波在硅片表面的能量。王暉博士介紹說，由盛美半導體自主研發(fā)的SAPS兆聲波技術，利用空間交變相移原理可以對兆聲波的能量進行精確控制，將12英寸硅片面內兆聲波非均勻度控制在2%以內，一舉解決了困擾業(yè)界多年的棘手問題。
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