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美國應(yīng)用材料發(fā)布面向45nm以后工藝的激光退火裝置

時(shí)間：2009-12-03 07:40:00

關(guān)鍵字：激光 5NM APPLIED ST

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[導(dǎo)讀]美國應(yīng)用材料公司（Applied Materials）發(fā)布了能夠以ms為單位進(jìn)行退火的激光退火裝置“Applied Vantage Astra”。主要在形成45nm工藝以后邏輯LSI的鎳硅（NiSi）接觸時(shí)使用。臺(tái)灣臺(tái)積電（Taiwan Semiconductor Manufa

美國應(yīng)用材料公司（Applied Materials）發(fā)布了能夠以ms為單位進(jìn)行退火的激光退火裝置“Applied Vantage Astra”。主要在形成45nm工藝以后邏輯LSI的鎳硅（NiSi）接觸時(shí)使用。臺(tái)灣臺(tái)積電（Taiwan Semiconductor Manufacturing，TSMC）已決定在28nm工藝的邏輯LSI上采用該裝置。

Applied Vantage Astra可采用波長為810nm的固體激光來局部提高晶圓表面的溫度。例如，可在ms單位內(nèi)將200℃以下的晶圓表面加熱至1000℃以上。用于形成MOS晶體管源漏極的鎳硅接觸時(shí)，通過減小鎳硅中的缺陷、以及改善界面狀態(tài)，晶體管的通態(tài)電流增加了3～4％。

除了鎳硅外，該裝置還可用于High-k/金屬柵極、三維元件和內(nèi)存等領(lǐng)域。應(yīng)用材料將在“SEMICON JAPAN 2009”（12月2日～4日，幕張Messe會(huì)展中心）上介紹Applied Vantage Astra。（記者：河合基伸）

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