國際整流器公司 (International Rectifier,簡稱IR) 推出一系列25 V及30 V器件,采用了IR最新的HEXFET MOSFET硅器件和新款高性能PQFN 3 x 3封裝,為電信、網(wǎng)絡(luò)通信和高端臺式機(jī)及筆記本電腦應(yīng)用的DC-DC轉(zhuǎn)換器提供了高密度、可靠和高效率的解決方案。
IR的新款高性能PQFN 3 x 3封裝是生產(chǎn)技術(shù)改進(jìn)的成果,以全新緊湊的占位空間提供比標(biāo)準(zhǔn)PQFN 3 x 3器件高出多達(dá)60%的負(fù)載電流能力,同時(shí)極大地減少了整體封裝電阻,從而達(dá)到極低的導(dǎo)通電阻 (RDS(on)) 。除了低導(dǎo)通電阻,新的高性能PQFN封裝加強(qiáng)了熱傳導(dǎo)率并提高了可靠性,且符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)及MSL1濕度敏感性測試。
這一高性能PQFN封裝技術(shù)也適用于5 x 6 mm占位面積的器件,與標(biāo)準(zhǔn)PQFN 5 x 6 器件相比,在設(shè)計(jì)要求更多電流時(shí)無需增加額外占位面積。
該系列產(chǎn)品包括用作控制MOSFET的優(yōu)化器件,具有低柵極導(dǎo)通電阻 (Rg) ,以減少開關(guān)損耗。在同步MOSFET應(yīng)用方面,新器件以FETKY (單片式FET及肖特基二極管) 配置形式提供,從而縮短反向恢復(fù)時(shí)間,以提高效率和EMI性能。
IR亞太區(qū)銷售副總裁潘大偉表示:“全新系列高性能PQFN封裝器件專為DC-DC應(yīng)用優(yōu)化,是非常可靠且靈活的高密度解決方案。此外,隨著IR對PQFN產(chǎn)品的擴(kuò)展,客戶現(xiàn)在可以從眾多封裝組合中挑選出使他們的設(shè)計(jì)達(dá)到最佳效果的產(chǎn)品。”
新器件的高度小于1 mm,與現(xiàn)有表面貼裝技術(shù)兼容,并擁有行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)引腳,還符合電子產(chǎn)品有害物質(zhì)限制指令 (RoHS) 。
新系列已接受批量訂單。
傳統(tǒng)上,耗盡型 MOSFET 被歸類為線性器件,因?yàn)樵礃O和漏極之間的傳導(dǎo)通道無法被夾斷,因此不適合數(shù)字開關(guān)。這種誤解的種子是由 Dawon Kahng 博士播下的,他在 1959 年發(fā)明了第一個(gè)耗盡型 MOSFET——只...
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關(guān)鍵字: 意法半導(dǎo)體 穩(wěn)壓器 MOSFET 續(xù)流二極管