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ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術
據業(yè)內消息，近日荷蘭半導體設備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進高數值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作，為使用半導體技術的行業(yè)提供原型設計平臺和未開發(fā)的未來機遇。
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ASML：2022年EUV出貨超50臺，下一代2年后面世
據業(yè)內信息，近日全球光刻機巨頭ASML在今年的半導體EUV生態(tài)系統(tǒng)全球大會上表示，EUV設備出貨量這幾年來不斷上升，去年大約為42臺，而今年預測將超過50臺。2024年年底預計推出下一代High-NA EUV設備。
